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Case 激光位移

光谱共焦技术在精密几何量计量测试中的应用

日期: 2022-01-17
浏览次数: 130

摘要:光谱共焦测量技术由于其具有测量精度高、测量速度快、可以实现非接触测量的独特优势而被广泛应用于工业级测量。本文介绍了光谱共焦技术的原理, 列举了国内外光谱共焦传感器在精密几何量计量测试中的一些典型应用, 展望光谱共焦传感器的应用发展前景。


关键词:计量学;光谱共焦;几何量计量测试


0     引言

共焦显微术的概念首先是由美国的Minsky1955年提出,其利用共焦原理搭建第一台共焦显微镜,并于1957年申请了专利。自20世纪90年代,随着计算机技术的飞速发展,共焦显微术成了研究的热点,得到快速的发展。共焦显微镜可突破普通光学显微镜的衍射极限,其横向分辨力为光学显微镜的1.4倍。共焦测量术由于其高精度、高分辨率以及易于实现三维数字化成像的独特优势,在生物医学、材料科学、半导体制造、表面工程研究、精密测量等领域得到广泛应用。


光谱共焦技术是在共焦显微术基础上发展而来,其无需轴向扫描,直接由波长对应轴向距离信息,从而大幅提高测量速度。而基于光谱共焦技术的传感器是近年来出现的一种高精度、非接触式的新型传感器,精度理论上可达nm量级。由于光谱共焦传感器对被测表面状况要求低,允许被测表面有更大的倾斜角,测量速度快,实时性高,迅速成为工业测量的热门传感器,广泛应用于精密定位、薄膜厚度测量、微观轮廓精密测量等领域。


本文在论述光谱共焦技术原理的基础上,列举了光谱共焦传感器在几何量计量测试中的典型应用,探讨共焦技术在未来精密测量的进一步应用,展望其发展前景。


1     光谱共焦技术工作原理

光谱共焦位移传感器使用宽谱光源照射到被测物体表面,由光谱仪探测反射回来的光谱,确定完美聚焦于物体表面的峰值波长,从而确定其轴向距离信息,其原理如图1所示。

光谱共焦技术在精密几何量计量测试中的应用

1光谱共焦传感器工作原理图


光源发出的具有宽光谱的复色光(如白光)穿过针孔后,近似为点光源。复色光经过分光镜(半透半反镜)后,照射在一组色散镜头组上。色散镜头组将复色光在光轴方向上分解成不同波长的单色光(λ1λ2λ3…),当被测物体放置在色散镜头组像平面附近的测量区域时,所有波长的光被反射回透镜组后,通过分光镜的反射面,反射至针孔,由放置在针孔后的光谱仪接收。由于点光源、物体表面某点、光谱仪前的针孔三者相互共轭,只有完美聚焦在被测物体表面的单色光才可以穿过针孔,由光谱分析仪确定其波长。因为每一个波长都预先对应于一个固定的距离值,因此通过确定光谱曲线峰值波长即可推算出对应的精确距离值。


假设被测物体表面某点刚好在单色光(λ2)的像点处,而针孔位于色散镜头组的焦点处,则此单色光反射反射回针孔时,形成的像点最小,刚好穿过针孔,此时光谱仪探测到的光强最大。针孔作为光阑,不但消除了杂散光,而且挡住了非色散透镜主焦平面上其他波长的单色光,有效的提高了光谱仪的信噪比,使得光谱共焦探测系统具有很高的对比度和清晰度,极高的分辨率,可提供可靠、高精度、可持续的尺寸测量。


假设物体表面与传感器相对移动,此时物体表面另外一点刚好处在单色光(λ1)的像点处,则光谱仪探测到的光谱曲线即为单色光(λ1)的光谱,如图2所示。通过每次测量得到不同的波长值,即可推算出物体表面不同点之间的相对位移值。如果配上三维精细扫描机构,即可进行整体的三维表面轮廓及形貌的精确测量。


光谱共焦传感器凭借其独特的测量原理,相比其他传统的位移传感器,具有非接触、体积小、精度高、测量效率高的特点,在各个领域得到了广泛的应用。


光谱共焦技术在精密几何量计量测试中的应用

2   T1T2不同时刻光谱仪探测到的光谱分布示意图


2     光谱共焦传感器典型应用

2.1   表面粗糙度测量应用

表面粗糙度是指零件在加工过程中由于不同的加工方法、机床与刀具的精度、振动及磨损等因素在工件加工表面上形成的具有较小间距和较小峰谷的微观水平状况,是表面质量的一个重要衡量指标,关系零件的磨损、密封、润滑、疲劳、研和等机械性能。


表面粗糙度测量主要可分为接触式测量和非接触式测量。触针式接触测量容易划伤测量表面、针尖易磨损、测量效率低、不能测复杂表面,而非接触测量相对而言可以实现非接触、高效、在线实时测量,而成为未来粗糙度测量的发展方向。目前常用的非接触法主要有干涉法、散射法、散斑法、聚焦法等。而其中聚焦法较为简单实用。


采用光谱共焦位移传感器,搭建了一套简易的测量装置,对膜式燃气表的阀盖粗糙度进行了非接触的测量,以此来判断阀盖密封性合格与否,取得了一定的效果。基于光谱共焦传感器,利用其搭建的二维纳米测量定位装置对粗糙度样块进行表面粗糙度的非接触测量,并对测量结果进行不确定评定,得到U9513.9%


2.2   轮廓、几何尺寸测量应用

随着机械加工水平的发展,越来越多的微小复杂工件需要进行轮廓测量及精密尺寸测量,如小圆倒角的测量、小工件内壁沟槽尺寸等的测量。一些精密光学元件也需要进行非接触的轮廓形貌测量,以避免接触测量时划伤光学表面。这些用传统传感器难以解决的测量难题,均可用光谱共焦传感器搭建测量系统以解决。


滚针对涡轮盘轮廓度检测的问题,利用光谱共焦式位移传感器实现涡轮盘轮廓度在线检测系统的设计。通过自行搭建的二维纳米测量定位装置,选用光谱共焦传感器作为测头,实现对超精密零件的二维尺寸测量,其结构示意图如图3所示。使用激光共焦位移计,配合二维精密控制微动台,对西汉的日光镜进行表面起伏深度的扫描,来探究光镜反光成像原理。

光谱共焦技术在精密几何量计量测试中的应用

3超精密二维测量定位装置示意图


预计未来,通过3D打印加工的复杂表面结构,一些金属表面的微小损伤,PCB板的平面度测量等也可基于光谱共焦传感器配合扫描机构进行三维形貌的高精度测量。


2.3   薄膜材料厚度测量应用

由于光谱共焦传感器对于不同的反射面反射回来的单色光的波长不同,因此对于材料的厚度精密测量具有独特的优势。光学玻璃、生物薄膜、平行平板等,两个反射面都会反射不同波长的单色光,进而只需一个传感器,即可推算出厚度,测量精度可达微米量级,且不损伤被测表面。讨论了利用光谱共焦位移传感器测量透明材料厚度的应用,计算了该系统的测量误差范围大概为0.005mm。提供了利用光谱共焦传感器对平行平板的厚度以及光学镜头的中心厚度进行测量的方法,并针对被测物体材料的色散对厚度测量精度的影响做了理论的分析。为了探究由流体跌落方式制备的薄膜厚度与跌落模式、雷诺数、底板的倾斜角度之间的关系,采用光谱共焦传感器实时监控制备后的薄膜厚度,其实验装置如图4所示。利用对顶安装的白光共焦传感器组,实现了对厚度为10100μm的金属薄膜厚度及分布的精确测量,并进行了测量不确定度分析,得到系统的测量不确定度为0.12μm左右。


光谱共焦技术在精密几何量计量测试中的应用

4实时测量薄膜厚度实验装置示意图


3     结论

光谱共焦技术将轴向距离与波长建立起一套编码规则,是一种高精度、非接触的光学测量技术。基于光谱共焦技术的传感器作为一种亚微米级、快速精确测量的传感器,已经被广泛应用于表面微观形状、厚度测量、位移测量、在线监控及过程控制等工业测量领域。展望其未来,随着光谱共焦传感技术的发展,必将在微电子、线宽测量、纳米测试、超精密几何量计量测试等领域得到更多的应用。



参考文献(略)

中图分类号:TB92    文章编号:16745795(2015)S0000403


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蓝光光源激光位移传感器:优势、原理与特殊场景解决方案 —— 泓川科技 LTP 系列 405nm 定制... 2025 - 10 - 21 在工业精密测量中,传统红光激光位移传感器常受高反射、半透明、高温红热等特殊场景限制,而蓝光光源(405nm 波长)凭借独特物理特性实现突破。以下通过 “一问一答” 形式,详解蓝光传感器的优势、原理构造,并结合泓川科技 LTP 系列定制方案,看其如何解决特殊环境测量难题。1. 蓝光光源激光位移传感器相比传统红光,核心优势是什么?蓝光传感器的核心优势源于 405nm 波长的物理特性,相比传统 655nm 左右的红光,主要体现在三方面:更高横向分辨率:根据瑞利判据,光学分辨率与波长成反比。蓝光波长仅为红光的 62%(405nm/655nm≈0.62),相同光学系统下横向分辨率可提升约 38%,能形成更小光斑(如泓川 LTP025 蓝光版光斑最小达 Φ18μm),适配芯片针脚、晶圆等微米级结构测量。更强信号稳定性:蓝光单光子能量达 3.06eV,远高于红光的 2.05eV。在低反射率材料(如橡胶、有机涂层)表面,能激发出更强散射信号;同时穿透性更低,仅在材料表层作用,避免内部折射干扰,适合表面精准测量。更优抗干扰能力:蓝光波段与红热辐射(500nm 以上)、户外强光(可见光为主)重叠度低,搭配专用滤光片后,可有效隔绝高温物体自发光、阳光直射等干扰,这是红光难以实现的。2. 蓝光激光位移传感器的原理构造是怎样的?为何能实现高精度测量?蓝光传感器的高精度的核心是 “光学设计 + 信号处理 + ...
泓川科技国产系列光谱共焦/激光位移传感器/白光干涉测厚产品性能一览 2025 - 09 - 05 高精度测量传感器全系列:赋能精密制造,适配多元检测需求聚焦半导体、光学膜、机械加工等领域的精密检测核心痛点,我们推出全系列高性能测量传感器,覆盖 “测厚、对焦、位移” 三大核心应用场景,以 “高精准、高速度、高适配” 为设计核心,为您的工艺控制与质量检测提供可靠技术支撑。以下为各产品系列的详细介绍:1.LTS-IR 红外干涉测厚传感器:半导体材料测厚专属核心用途:专为硅、碳化硅、砷化镓等半导体材料设计,精准实现晶圆等器件的厚度测量。性能优点:精度卓越:±0.1μm 线性精度 + 2nm 重复精度,确保测量数据稳定可靠;量程适配:覆盖 10μm2mm 测厚范围,满足多数半导体材料检测需求;高效高速:40kHz 采样速度,快速捕捉厚度数据,适配在线检测节奏;灵活适配:宽范围工作距离设计,可灵活匹配不同规格的检测设备与场景。2. 分体式对焦传感器:半导体 / 面板缺陷检测的 “高速对焦助手”核心用途:针对半导体、面板领域的高精度缺陷检测场景,提供高速实时对焦支持,尤其适配显微对焦类检测设备。性能优点:对焦速度快:50kHz 高速对焦,同步匹配缺陷检测的实时性需求;对焦精度高:0.5μm 对焦精度,保障缺陷成像清晰、检测无偏差;设计灵活:分体式结构,可根据检测设备的安装空间与布局灵活调整,降低适配难度。3. LT-R 反射膜厚仪:极薄膜厚检测的 “精密管家”核心用途:专注于极薄膜...
多方面研究泓川科技LTP系列大量程全国产激光位移传感器 2025 - 09 - 02 泓川科技激光位移传感器产品技术报告尊敬的客户: 感谢您对泓川科技激光位移传感器产品的关注与信任。为帮助您全面了解我司产品,现将激光位移传感器相关技术信息从参数指标、设计原理、结构设计等八大核心维度进行详细说明,为您的选型、使用及维护提供专业参考。一、参数指标我司激光位移传感器涵盖 LTP400 系列与 LTP450 系列,各型号核心参数经纳米级高精度激光干涉仪标定验证,确保数据精准可靠,具体参数如下表所示:表 1:LTP400EA参数表参数类别具体参数LTP400EA备注基础测量参数测量中心距离400mm以量程中心位置计算(*1)量程200mm-重复精度(静态)3μm测量标准白色陶瓷样件,50kHz 无平均,取 65536 组数据均方根偏差(*2)线性度±0.03%F.S.(F.S.=200mm)采用纳米级激光干涉仪标定(*3)光源与光斑光源类型-激光功率可定制,部分型号提供 405nm 蓝光版本(*4)光束直径聚焦点光斑 Φ300μm中心位置直径,两端相对变大(*5)电气参数电源电压DC9-36V-功耗约 2.5W-短路保护反向连接保护、过电流保护-输出与通信模拟量输出(选配)电压:0-5V/010V/-1010V;电流:420mA探头可独立提供电压、电流与 RS485 输出(*6)通讯接口RS485 串口、TCP/IP 网口可选配模拟电压 / 电流输出模块(*7)响应...
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