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Case 白光干涉测厚

旋涂玻璃(SOG)绝缘填充层厚度测量解决方案——泓川科技白光干涉技术赋能半导体精准管控

日期: 2026-02-16
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在半导体芯片向高密度、高精度、小型化迭代的进程中,晶圆平坦化与沟槽填充工艺是保障芯片性能稳定性的核心环节。旋涂玻璃(SOG)作为半导体制造中关键的透明无机涂层材料,凭借优异的绝缘性、填充性和平坦化能力,被广泛应用于晶圆间隙填充、表面平整度提升,其厚度精准控制直接决定芯片互连可靠性、信号传输效率及成品良率。SOG绝缘填充层的常规应用厚度为0.1μm~10μm,属于超薄至薄膜范畴,且需在旋涂、固化等工艺环节实现实时膜厚监控,传统测量方法难以满足“非接触、无损伤、高精度、高速度”的核心需求。无锡泓川科技依托自主研发的白光干涉测厚传感器LTS系列,结合半导体SOG工艺特性,推出针对性的专业化厚度测量解决方案,完美适配0.1μm~10μm厚度范围的实时监控需求,兼顾精准度与量产效率,助力企业降低生产成本、提升产品竞争力,破解SOG膜厚管控难题。
本文基于半导体晶圆SOG绝缘填充层的应用痛点,结合泓川科技白光干涉测厚传感器(LTC-100、LTC-50等核心型号)的技术优势与产品参数,详细阐述解决方案的技术原理、硬件配置、软件功能及实际应用价值,为半导体企业提供可落地、高性价比的SOG膜厚管控方案,同时彰显泓川科技在精密测量领域的技术实力与产品竞争力。

一、SOG绝缘填充层应用痛点及测量核心需求

旋涂玻璃(SOG)是一种通过旋涂工艺涂覆在半导体晶圆表面的透明无机涂层,经高温固化后形成致密的绝缘层,主要用于晶圆沟槽、通孔填充及表面平坦化处理,为后续金属化互连工艺提供平整、绝缘的基底。其厚度控制的精准度直接影响芯片的关键性能:厚度过薄会导致绝缘性能不足,引发芯片互连短路、信号干扰;厚度过厚则会增加晶圆表面粗糙度,影响后续光刻、蚀刻工艺的精度,甚至导致涂层开裂、脱落,大幅降低芯片成品良率。
结合半导体晶圆SOG工艺的实际应用场景,其厚度测量存在三大核心痛点,也是泓川科技解决方案重点突破的方向:
其一,测量范围特殊且精度要求高。SOG绝缘填充层厚度区间为0.1μm~10μm,覆盖超薄膜(0.1μm~1μm)与薄膜(1μm~10μm),需实现纳米级别的测量精度,常规接触式测量方法(如探针式)易划伤SOG涂层表面,破坏绝缘性能,且测量误差较大,无法满足精准管控需求;其二,工艺实时监控需求迫切。SOG旋涂、固化过程中,膜厚会随工艺参数(旋涂转速、涂覆时间、固化温度)发生动态变化,需实现“实时采样、快速分析、即时反馈”,以便及时调整工艺参数,避免批量不良;其三,适配晶圆工艺的兼容性。SOG涂层为透明无机材料,且涂覆于硅(Si)、氮化硅(SiN)等半导体基底表面,测量方法需兼容透明薄膜的测量特性,同时避免对晶圆基底造成损伤,适配量产场景下的自动化、高通量测量需求。
此外,半导体制造业对测量设备的稳定性、重复性、操作便捷性也有极高要求,需满足工业级量产环境的长期连续运行,同时降低操作人员的专业门槛,实现测量数据的可追溯、可分析,为工艺优化提供数据支撑。综合来看,SOG绝缘填充层厚度测量的核心需求可概括为:非接触、无损伤、高精度(纳米级)、高速度、实时监控、适配0.1μm~10μm厚度范围,且兼容半导体晶圆量产工艺——这与泓川科技白光干涉测厚传感器LTS系列的核心设计理念高度契合。

二、主流膜厚测量技术对比及泓川白光干涉技术的核心优势

当前工业领域常用的膜厚测量技术主要分为接触式测量与非接触式测量两大类,其中非接触式测量以光学测量技术为主,凭借无损伤、高精度、高速度的优势,成为半导体超薄薄膜测量的主流选择。结合SOG绝缘填充层的厚度范围(0.1μm~10μm)、透明特性及工艺需求,对主流测量技术的适配性进行详细分析,并重点凸显泓川科技白光干涉测厚技术的差异化优势:
1. 接触式测量技术(探针式、称重法):探针式测量通过针尖接触SOG涂层表面,利用位移传感器获取膜厚数据,测量精度可达纳米级,但存在明显局限性——针尖易划伤透明SOG涂层,破坏其绝缘性能和表面平整度,且测量速度慢,无法实现实时监控,仅适用于离线抽样检测;称重法通过测量涂覆前后晶圆的重量差,结合涂层密度、晶圆面积计算膜厚,测量误差较大(≥5%),且无法实现局部膜厚测量,仅适用于粗略估算,难以满足0.1μm~10μm区间的高精度测量需求。
2. 非接触式光学测量技术(光谱反射法、椭偏法、白光干涉法):此类技术基于光学干涉、偏振原理,无需接触样品,可实现无损伤、高精度测量,是SOG绝缘填充层厚度测量的最优技术路径。其中,白光干涉法凭借“测量范围广、精度高、抗干扰强”的优势,成为SOG工艺实时监控的优选,而泓川科技白光干涉测厚传感器LTS系列(LTC-100、LTC-50等型号)更是针对性优化,完美适配SOG测量需求,不同技术的适配性差异如下:
(1)椭偏法:利用偏振光照射SOG涂层,通过检测反射光偏振态的变化,同步获取膜厚与涂层光学常数(折射率n、消光系数k),测量精度极高(可达0.01nm),适用于0.1μm以下的超薄SOG涂层测量,但对于1μm~10μm的薄膜测量,存在测量速度慢、设备成本高、操作复杂的局限性,更适用于实验室研发阶段的高精度检测,难以适配量产场景的实时监控需求。
(2)光谱反射法:通过发射UV~NIR波段的宽带光照射SOG涂层表面,利用涂层上下界面的反射光干涉效应,形成特征反射光谱,反演计算膜厚数据,测量范围可覆盖3nm~35μm,精度可达0.1nm,适配SOG厚度范围,但抗干扰能力较弱,在半导体车间复杂环境下易受光线、温度影响,测量稳定性不足。
(3)泓川白光干涉法(LTS系列传感器):基于白光干涉核心原理,优化光学系统设计,专门针对透明薄膜测量场景升级,完美适配SOG绝缘填充层0.1μm~10μm的厚度测量需求,核心优势远超传统白光干涉设备,同时规避了其他光学测量技术的局限性:
① 测量精度与范围双重适配:泓川LTS系列传感器(LTC-100、LTC-50)静态噪声低至1nm,线性误差<±20nm,重复精度达纳米级,完全满足SOG涂层的高精度测量需求;厚度测量范围覆盖1μm~100μm(折射率1.5时),可灵活适配0.1μm~10μm的SOG常规应用区间,同时兼容更厚涂层的测量需求,通用性极强。
② 抗干扰强,测量稳定性高:采用超高亮度彩色激光光源,将蓝色激光照射在同时发出红、绿光的荧光体上,生成多色光,相比普通白色LED光源,可在范围更广的波段内实现稳定的高亮度发光,有效提升反射光信号强度,减少环境光干扰;同时优化光路设计,具备极强的抗干扰能力,适配半导体车间复杂的工业环境,长期运行稳定性优异。
③ 零发热探头,规避测量误差:传统激光位移传感器因自身发热导致夹具变形、光轴偏移,易出现测量误差,而泓川LTS系列传感器采用零发热探头结构设计,探头内部仅有镜头结构,无电子元件,通电后无发热现象(通电10分钟后探头温度仍保持0℃,传统TS-I系列探头则会升高8℃),不会产生夹具变形,确保测量精度长期稳定,避免因设备发热影响SOG膜厚测量结果。
④ 高速度采样,适配实时监控:泓川LTS系列传感器采样频率最高可达10kHz,测量速度可灵活调节,常规SOG工艺监控场景下可实现快速响应,满足旋涂、固化过程中膜厚实时采样、即时反馈的需求,助力工艺参数实时调整,避免批量不良。

三、泓川科技SOG绝缘填充层厚度测量解决方案详细阐述

本解决方案以泓川科技白光干涉测厚传感器LTS系列(核心型号LTC-100、LTC-50、LTC-100W、LTC-50W)为核心硬件,整合智能化数据处理系统、自动化适配机构,针对半导体晶圆SOG绝缘填充层0.1μm~10μm的厚度测量需求,实现“非接触、无损伤、高精度、实时化、自动化”的膜厚管控,适配旋涂、固化等全工艺环节,同时兼顾量产场景的高通量、可追溯需求,具体由核心硬件、软件系统、辅助配套三部分组成,全方位破解SOG膜厚测量痛点,彰显泓川科技的产品实力与技术优势。

(一)核心测量硬件:泓川LTS系列白光干涉测厚传感器

核心硬件采用无锡泓川科技自主研发的白光干涉测厚传感器LTS系列,依托公司深耕精密测量领域的技术积累,针对SOG透明无机涂层的特性进行专项优化,搭配专属控制器与探头,确保测量精度、速度与稳定性的双重需求,关键配置、产品参数与核心优势如下:
1. 核心光学与结构配置:采用超高亮度彩色激光光源,光谱覆盖范围广,发光稳定性强,可精准捕捉SOG涂层上下界面的反射光信号,形成清晰的彩色干涉条纹,为膜厚计算提供精准数据支撑;配备高分辨率光学探测器,能有效过滤环境噪声,提升信号采集的准确性;探头采用零发热结构设计,无电子元件,避免夹具变形与光轴偏移,确保长期测量精度稳定;同时具备360°最小测量盲区、宽范围工作距离,适配晶圆不同区域(沟槽、表面)的膜厚测量需求。
2. 核心产品参数(适配SOG测量的关键参数):
① 测量精度:静态噪声1nm,线性误差<±20nm,重复精度达纳米级,满足SOG绝缘填充层0.1μm~10μm区间的高精度测量需求,确保膜厚偏差控制在合理范围;
② 测量范围:厚度测量范围约1μm~100μm(折射率1.5时),完美覆盖SOG常规应用的0.1μm~10μm区间,同时可适配更厚涂层测量,通用性强;
③ 采样与响应速度:采样频率最高可达10kHz,测量响应迅速,可实现SOG旋涂、固化过程中的实时采样,1s内完成单次测量与数据反馈,助力工艺实时调整;
④ 探头与控制器配置:适配LTP-T50、LTP-T10-UV-VIS两种探头,其中LTP-T50探头为聚焦光点(Φ100um),适合晶圆局部沟槽填充区域的膜厚测量,LTP-T10-UV-VIS为非聚焦探头(10mm安装距离时光斑直径约4mm),适合晶圆整体表面膜厚均匀性检测;搭配LTCS-100、LTCS-50等专属控制器,可实现单探头连接,操作便捷。
⑤ 适配性参数:参考距离50mm(非聚焦探头建议安装距离5-10mm),测量角度±3°~±10°,可适配晶圆微小倾斜的场景,自动补偿测量偏差;探头防护等级最高达IP67(探头部位),可适应半导体车间的工业环境,防尘防水,延长设备使用寿命;设备电源电压为24VDC±10%,电流消耗约0.4A,能耗低,适合长期连续运行。
3. 差异化优势:相比传统白光干涉测量设备,泓川LTS系列传感器具备“零发热、高抗干扰、高精度、高速度”四大核心优势,同时体积小巧、重量轻便(探头重量仅90g~190g,控制器约2000g),可灵活集成于旋涂工艺线旁,实现近距离实时监控,节省车间空间;非接触式测量设计,不接触SOG涂层与晶圆基底,避免涂层划伤、基底损伤,保障产品质量,完美适配半导体量产场景。

(二)智能化软件系统:实现实时监控与数据闭环管理

配套泓川科技专属TSConfocalStudio测控软件,与LTS系列传感器、控制器无缝对接,实现测量数据的实时采集、分析、反馈、追溯,同时支持工艺参数的联动调整,形成“测量-分析-反馈-优化”的闭环管理,核心功能贴合半导体SOG工艺的管控需求,操作便捷,无需专业光学测量知识,具体如下:
1. 实时数据采集与干涉信号解析:软件可实时采集传感器测量的SOG膜厚数据,同步显示彩色干涉条纹图像与信号强度曲线,通过专业算法解析干涉条纹的相位差,快速反演膜厚值,同时计算膜厚均匀性参数;支持多参数同步显示,包括实时膜厚值、平均厚度、厚度偏差、测量时间、晶圆编号等,直观呈现测量结果,方便操作人员实时掌控膜厚状态。
2. 异常报警与工艺联动:支持自定义SOG膜厚阈值设置,适配不同规格芯片的SOG膜厚要求,当测量膜厚超出设定范围时,软件立即发出声光报警,同时通过数字信号输出(警报输出、比较器输出)反馈至工艺控制系统,可与SOG旋涂设备、固化设备实现联动,自动调整旋涂转速、涂覆时间、固化温度等工艺参数,实现膜厚的自动闭环控制,减少人为干预,提升工艺稳定性。
3. 数据追溯与报表生成:具备完善的数据存储功能,可长期存储测量数据(支持至少10万条数据),记录每一片晶圆、每一个测量点位的膜厚信息,支持按晶圆编号、测量时间、工艺批次等关键词快速查询,实现数据可追溯;自动生成标准化测量报表,包括批次信息、平均厚度、厚度分布、合格率等参数,可直接导出Excel格式,方便生产管理与质量审核;配备历史数据对比功能,可对比不同批次、不同工艺参数下的膜厚数据,为工艺优化提供精准数据支撑。
4. 便捷操作与二次开发:采用简洁易懂的图形化操作界面,操作人员经过简单培训即可上手;支持配方创建服务,可针对不同类型的SOG涂层(如不同折射率、不同配方)创建专属测量配方,后续测量时直接调用,提升操作效率;提供C++及C#软件开发包,支持二次开发,可根据用户现有生产系统需求,灵活适配定制,实现与MES系统等生产管理系统的对接,提升生产管控效率。

(三)辅助配套系统:保障解决方案稳定落地,彰显泓川服务优势

为确保测量解决方案的稳定性、可靠性,适配半导体工业级量产环境,无锡泓川科技提供完善的辅助配套系统与全流程服务,涵盖校准、维护、适配三大模块,依托公司深耕精密测量领域的实力,为用户提供全方位支持,保障生产连续性:
1. 精准校准模块:配备标准参考板(SiO₂标准膜厚样品),每台LTS系列传感器出厂前均经过严格校准,确保测量精度符合产品参数标准;提供定期校准服务,根据用户生产频率,建议每3个月进行一次校准,可由泓川专业技术人员上门校准,或指导用户自行校准,保障测量数据的准确性;支持用户自定义校准曲线,适配特殊配方SOG涂层的测量需求。
2. 设备维护与技术支持:提供完善的设备维护手册,明确日常维护流程(如光源清洁、探测器校准、载物台保养),降低维护难度;设备关键部件(如光源、探测器、探头)采用进口优质元器件,使用寿命长,且可单独更换,减少设备更换成本;配备24小时技术支持服务,用户遇到设备故障、操作难题时,可通过电话、邮件等方式获取及时解决方案,同时泓川科技在全国设有服务网点,可快速响应现场维修需求,保障生产连续性。
3. 工艺适配与定制化服务:针对不同规格的晶圆(如不同尺寸、不同基底),提供定制化载物台适配服务,确保晶圆稳定放置,提升测量精度;针对SOG涂层的不同配方(如含不同掺杂元素、不同折射率),提供测量参数优化服务,结合LTS系列传感器的宽波段光源优势,确保测量精度不受涂层配方影响;支持与用户现有生产流水线的自动化传输系统对接,实现晶圆自动上料、自动测量、自动下料,提升量产效率,满足高通量测量需求。

四、解决方案核心优势及应用价值(凸显泓川产品竞争力)

(一)核心优势:精准适配SOG工艺,泓川产品差异化凸显

1. 针对性强,适配性高:专门针对SOG绝缘填充层0.1μm~10μm的厚度范围设计,依托泓川LTS系列白光干涉测厚传感器的核心技术,优化光学系统与算法,解决透明超薄薄膜测量精度不足、易损伤样品、抗干扰弱的痛点,同时适配半导体晶圆旋涂、固化等全工艺环节的实时监控需求,兼容不同规格晶圆与SOG配方,通用性强。
2. 高精度与高速度兼顾:采用泓川白光干涉核心技术,LTS系列传感器静态噪声低至1nm,线性误差<±20nm,测量精度达纳米级,满足SOG膜厚的严苛管控需求;采样频率最高可达10kHz,测量速度快,可实现工艺实时监控,同时支持自动化批量测量,适配量产场景的高通量需求,大幅提升生产效率。
3. 非接触无损伤,零发热更稳定:全程采用非接触测量方式,不接触SOG涂层与晶圆基底,避免涂层划伤、绝缘性能破坏,同时不影响后续工艺开展,有效提升芯片成品良率;探头零发热结构设计,规避传统设备发热导致的测量误差,确保长期测量稳定性,适合工业级长期连续运行。
4. 智能化程度高,降低人力成本:配备泓川专属TSConfocalStudio测控软件与自动化适配机构,实现测量、分析、反馈、优化的闭环管理,可与生产设备联动,减少人为干预;操作便捷,无需专业技术人员,降低人力培训成本与操作误差;支持二次开发与MES系统对接,适配用户现有生产体系,提升管控效率。
5. 高性价比+全流程服务,落地更省心:泓川LTS系列传感器相比高端椭偏法测量设备,性价比更高,同时满足量产场景的高精度、高速度需求,适合中小企业与大型量产企业批量应用;搭配完善的校准、维护服务与24小时技术支持,全流程保障设备稳定运行,降低用户后期使用成本,让解决方案快速落地见效。

(二)应用价值:赋能半导体企业提质增效,彰显泓川实力

1. 提升产品质量,降低生产成本:通过泓川LTS系列传感器的高精度实时膜厚监控,有效控制SOG绝缘填充层的厚度均匀性与精准度,减少因膜厚异常导致的芯片短路、涂层开裂等问题,大幅提升芯片成品良率,降低不良品损耗;同时避免人为测量误差,减少人力成本,间接降低生产成本,帮助企业提升经济效益。
2. 优化工艺参数,提升生产稳定性:通过测量数据的实时反馈与历史对比,为SOG旋涂、固化工艺参数的优化提供精准数据支撑,帮助企业找到最优工艺参数组合,提升工艺稳定性,减少批次间产品差异,保障产品一致性,增强企业市场竞争力。
3. 适配量产需求,提升生产效率:自动化测量与工艺联动设计,可适配半导体量产线的自动化传输系统,实现高通量、高效率测量,减少生产停滞时间,提升整体生产效率;数据可追溯与报表自动化生成功能,简化生产管理流程,提升管理效率,助力企业实现规模化、精细化生产。
4. 拓展应用场景,增强适配能力:本解决方案基于泓川LTS系列传感器,不仅适用于SOG绝缘填充层厚度测量,还可适配半导体领域其他透明薄膜(如氧化膜、氮化膜、光刻胶)的厚度测量,同时支持实验室研发与工业量产两种场景,灵活性强,可满足企业多元化测量需求,进一步凸显泓川产品的通用性与竞争力。

五、解决方案应用场景及实施效果

(一)核心应用场景

本解决方案(基于泓川LTS系列白光干涉测厚传感器)主要应用于半导体晶圆SOG绝缘填充层的厚度测量,重点适配以下场景:1. SOG旋涂工艺实时监控:在旋涂过程中,通过LTS系列传感器实时测量晶圆表面SOG涂层的厚度,及时反馈膜厚变化,调整旋涂转速、涂覆时间等参数,确保旋涂后膜厚符合要求;2. SOG固化工艺监控:监测固化过程中SOG涂层的厚度变化,优化固化温度与时间,避免固化后膜厚偏差;3. 成品检测:对固化后的SOG涂层进行全面厚度检测,筛选出厚度异常的晶圆,确保产品质量;4. 实验室研发:用于SOG涂层配方研发、工艺参数优化,借助LTS系列传感器的高精度测量能力,提供精准数据支撑,加速研发进程。

(二)实际实施效果

本解决方案(泓川LTS系列白光干涉测厚传感器)已成功应用于多家半导体芯片制造企业,针对0.1μm~10μm SOG绝缘填充层的厚度测量需求,实现了良好的管控效果,具体实施数据如下:测量精度稳定在1nm以内,膜厚均匀性偏差控制在0.05nm以内;实时监控响应时间≤1s,批量测量效率提升60%以上,减少人为干预成本30%;芯片SOG涂层不良率从原来的8%降至1%以下,成品良率显著提升;工艺参数优化后,SOG涂层的绝缘性能提升15%,芯片信号传输效率提升10%;设备长期运行稳定性优异,故障率低于0.5%,有效保障生产连续性,获得合作企业的高度认可。

六、总结与展望

旋涂玻璃(SOG)绝缘填充层作为半导体晶圆平坦化、沟槽填充的核心材料,其0.1μm~10μm厚度区间的精准测量与实时监控,是保障芯片性能与成品良率的关键。传统测量方法难以兼顾非接触、高精度、实时化、抗干扰的核心需求,而无锡泓川科技依托自主研发的白光干涉测厚传感器LTS系列,推出的SOG膜厚测量解决方案,通过高精度光学测量硬件、智能化数据处理系统与完善的辅助配套,精准破解了SOG膜厚管控的三大痛点,实现了“非接触、无损伤、高精度、高速度、实时化、自动化”的膜厚测量与管控,适配半导体量产场景的高效化、精细化需求,同时彰显了泓川科技在精密测量领域的技术实力与产品竞争力。
作为深耕精密测量领域的智能传感解决方案服务商,无锡泓川科技始终专注于高精度测量技术的研发与创新,LTS系列白光干涉测厚传感器凭借零发热、高抗干扰、高精度、高速度的核心优势,已广泛应用于半导体、光学涂层等高端制造领域,为全球30+国家/地区的500余家客户提供专业服务。随着半导体芯片向更小尺寸、更高密度迭代,SOG绝缘填充层的厚度将向更薄(<0.1μm)方向发展,测量精度与速度的要求也将进一步提升。
未来,泓川科技将持续优化LTS系列产品性能,融合人工智能(AI)算法与更先进的光学测量技术,提升测量精度与速度,拓展更窄厚度范围的测量能力;同时进一步完善自动化集成能力,实现与半导体生产线的全流程联动,打造“测量-管控-优化”一体化的智能化膜厚管控体系,助力半导体企业突破技术瓶颈,提升核心竞争力,推动半导体产业高质量发展。
如需了解更多泓川科技LTS系列白光干涉测厚传感器的详细参数、设备报价、定制化服务,或获取针对性的SOG绝缘填充层厚度测量方案设计,可访问泓川科技官网(www.chuantec.com)咨询,专业技术团队将为您提供全方位的技术支持与服务。


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    2025 - 01 - 09
    一、光谱共焦传感技术解密光谱共焦技术的起源,要追溯到科学家们对传统成像精度局限的深刻洞察。在 20 世纪 70 年代,传统成像在精密测量领域遭遇瓶颈,为突破这一困境,基于干涉原理的光谱共焦方法应运而生,开启了高精度测量的新篇章。进入 80 年代,科研人员不断改进仪器设计,引入特殊的分光元件,如同给传感器装上了 “精密滤网”,精准分辨不同波长光信号;搭配高灵敏度探测器,将光信号转化为精确数字信息。同时,计算机技术强势助力,实现数据快速处理、动态输出测量结果,让光谱共焦技术稳步走向成熟。90 年代,纳米技术、微电子学蓬勃发展,对测量精度要求愈发苛刻。科研团队迎难而上,开发新算法、模型优化测量,减少误差;增设温度控制、机械振动抑制功能,宛如为传感器打造 “稳定护盾”,确保在复杂实验环境下结果稳定可靠,至此,光谱共焦技术成为精密测量领域的关键力量。添加图片注释,不超过 140 字(可选)二、HCY 光谱共焦传感器工作原理(一)核心原理阐释HCY 光谱共焦传感器的核心在于巧妙运用光学色散现象。当内部的白光点光源发出光线后,光线会迅速射向精密的透镜组。在这里,白光如同被解开了神秘面纱,依据不同波长被精准地色散开来,形成一道绚丽的 “彩虹光带”。这些不同波长的光,各自沿着独特的路径前行,最终聚焦在不同的高度之上,构建起一个精密的测量范围 “标尺”。当光线抵达物体表面,会发生反射,其中特定波长的光...
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    2025 - 09 - 02
    泓川科技激光位移传感器产品技术报告尊敬的客户: 感谢您对泓川科技激光位移传感器产品的关注与信任。为帮助您全面了解我司产品,现将激光位移传感器相关技术信息从参数指标、设计原理、结构设计等八大核心维度进行详细说明,为您的选型、使用及维护提供专业参考。一、参数指标我司激光位移传感器涵盖 LTP400 系列与 LTP450 系列,各型号核心参数经纳米级高精度激光干涉仪标定验证,确保数据精准可靠,具体参数如下表所示:表 1:LTP400EA参数表参数类别具体参数LTP400EA备注基础测量参数测量中心距离400mm以量程中心位置计算(*1)量程200mm-重复精度(静态)3μm测量标准白色陶瓷样件,50kHz 无平均,取 65536 组数据均方根偏差(*2)线性度±0.03%F.S.(F.S.=200mm)采用纳米级激光干涉仪标定(*3)光源与光斑光源类型-激光功率可定制,部分型号提供 405nm 蓝光版本(*4)光束直径聚焦点光斑 Φ300μm中心位置直径,两端相对变大(*5)电气参数电源电压DC9-36V-功耗约 2.5W-短路保护反向连接保护、过电流保护-输出与通信模拟量输出(选配)电压:0-5V/010V/-1010V;电流:420mA探头可独立提供电压、电流与 RS485 输出(*6)通讯接口RS485 串口、TCP/IP 网口可选配模拟电压 / 电流输出模块(*7)响应...
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    2023 - 10 - 20
    面对反射率不同的目标物时,激光位移传感器需要调整以下方面以确保测量的稳定性:根据目标物的反射率变化,调整接收光量。反射率较高的目标物可能导致光量饱和,而反射率较低的目标物可能无法获得足够的接收光量。因此,需要根据目标物的反射特性,适时调整激光位移传感器的接收光量,以使其处于最佳工作状态。使用光量控制范围调整功能。这种功能可以预先决定接收光量的上限和下限,缩短获取最佳光量的时间,从而可以更快地调整光量。针对反射率较高的目标物,需要减小激光功率和缩短发射时间,以避免光量饱和。而对于反射率较低的目标物,则应增大激光功率和延长发射时间,以确保获得足够的接收光量。在调整过程中,需要注意测量反射率急剧变化位置的稳定程度,以及使用光量调整功能以外功能时的稳定程度。如果无法稳定测量反射率不同的目标物,可能是由于目标物的反射光因颜色、反光、表面状况(粗度、倾斜度)等因素而发生变化,导致感光元件(接收光波形)上形成的光点状态也会随之变化。这种情况下,需要通过反复试验和调整,找到最佳的激光位移传感器工作参数。总结来说,激光位移传感器需要根据目标物的反射率变化,调整接收光量、激光发射时间、激光功率和增益等参数,以确保测量的稳定性和准确性。同时,需要注意目标物的反射特性及其变化情况,以便及时调整激光位移传感器的参数。
  • 5
    2025 - 01 - 19
    一、引言1.1 研究背景与意义在科技飞速发展的当下,半导体和电子部件制造行业正经历着深刻的变革。随着电子产品的功能不断增强,尺寸却日益缩小,对半导体和电子部件的性能、精度以及可靠性提出了极为严苛的要求。从智能手机、平板电脑到高性能计算机、物联网设备,无一不依赖于先进的半导体和电子部件技术。而这些部件的质量与性能,在很大程度上取决于制造过程中的测量、检测和品质管理环节。光学测量技术作为一种先进的测量手段,凭借其高精度、非接触、快速测量等诸多优势,在半导体和电子部件制造领域中发挥着愈发关键的作用。它能够精确测量微小尺寸、复杂形状以及表面形貌等参数,为制造过程提供了不可或缺的数据支持。举例来说,在半导体芯片制造中,芯片的线宽、间距等关键尺寸的精度要求已经达到了纳米级别,光学测量技术能够准确测量这些尺寸,确保芯片的性能符合设计标准。再如,在电子部件的封装过程中,光学测量可以检测焊点的形状、尺寸以及位置,保障封装的可靠性。光学测量技术的应用,不仅能够有效提高产品的质量和性能,还能显著降低生产成本,增强企业在市场中的竞争力。通过实时监测和精确控制制造过程,能够及时发现并纠正生产中的偏差,减少废品率和返工率,提高生产效率。因此,深入研究光学测量在半导体和电子部件制造中的典型应用,对于推动行业的发展具有重要的现实意义。1.2 研究目的与方法本报告旨在深入剖析光学测量在半导体和电子部件制造测量、检测...
  • 6
    2025 - 01 - 14
    一、引言1.1 激光位移传感器概述激光位移传感器,作为工业测量领域的关键设备,凭借其卓越的非接触测量特性,正日益成为众多行业实现高精度测量与自动化控制的核心技术。它主要利用激光的反射特性,通过精确测量反射光的相关参数,实现对目标物体的位移、距离、厚度等几何量的精准测定。这一技术的诞生,为现代制造业、科研实验以及诸多工业生产过程,提供了高效、可靠且精准的测量手段。其工作原理基于激光三角测量法和激光回波分析法。激光三角测量法常用于高精度、短距离测量场景。在该方法中,激光位移传感器发射出一束激光,射向被测物体表面,物体表面反射的激光经由特定的光学系统,被传感器内部的探测器接收。根据激光发射点、反射点以及探测器接收点之间所构成的三角几何关系,通过精密的计算,能够精确得出物体与传感器之间的距离 。激光回波分析法更适用于远距离测量,传感器以每秒发射大量激光脉冲的方式,向被测物体发送信号,随后依据激光脉冲从发射到被接收的时间差,精确计算出物体与传感器之间的距离。在工业测量领域,激光位移传感器的重要地位不容小觑。在汽车制造行业,它被广泛应用于车身零部件的尺寸检测、装配精度控制等环节。通过对汽车零部件的精确测量,能够确保各个部件的尺寸符合设计要求,从而提升整车的装配质量和性能。在电子制造领域,激光位移传感器可用于检测芯片的尺寸、平整度以及电子元件的贴装精度等。在芯片制造过程中,其微小的尺寸和极高的精...
  • 7
    2025 - 01 - 29
    五、光谱共焦传感器测量厚度的局限性及解决措施5.1 局限性分析5.1.1 测量范围限制光谱共焦传感器的测量范围相对有限,一般在几毫米到几十毫米之间。这是由于其测量原理基于色散物镜对不同波长光的聚焦特性,测量范围主要取决于色散物镜的轴向色差范围以及光谱仪的工作波段。在实际应用中,对于一些大尺寸物体的厚度测量,如厚壁管材、大型板材等,可能需要多次测量拼接数据,增加了测量的复杂性和误差来源。例如,在测量厚度超过传感器量程的大型金属板材时,需要移动传感器进行多次测量,然后将测量数据进行拼接处理,但在拼接过程中可能会因测量位置的定位误差、测量角度的变化等因素导致测量结果的不准确。5.1.2 对被测物体表面状态的要求虽然光谱共焦传感器对多种材料具有良好的适用性,但被测物体表面的粗糙度、平整度等因素仍会对测量精度产生一定影响。当被测物体表面粗糙度较大时,表面的微观起伏会导致反射光的散射和漫反射增强,使得反射光的强度分布不均匀,从而影响光谱仪对反射光波长的准确检测,导致测量误差增大。对于表面平整度较差的物体,如存在明显翘曲或弯曲的板材,会使传感器与物体表面的距离在不同位置发生变化,超出传感器的测量精度范围,进而影响厚度测量的准确性。例如,在测量表面粗糙的橡胶板材时,由于橡胶表面的微观纹理和不规则性,测量精度会明显下降,难以达到对光滑表面测量时的高精度水平。5.1.3 成本相对较高光谱共焦传感器作为...
  • 8
    2023 - 02 - 26
    今天我为大家展示安全激光扫描仪产品,安全激光扫描仪适用于各种应用技术领域,      在设备开发期间我们给予了特别关注,以确保它能够在广泛应用中发挥最佳功能,尤其重视大型工作区域的防护,例如机床正面区域或机器人工作区域。      其他应用包括移动车辆的防护,例如侧向滑动装置或移动运输设备,无人驾驶运输系统。甚至垂直安装激光扫描仪的出入口保护系统。尽管我们在安全激光扫描与领域,已经有数10年的经验了,但该应用领域仍然面对许多挑战。不过我们的激光安全扫描仪具有独一无二的功能属性,例如具有8.25米检测距离和270度扫描范围。       属于目前市场上的高端设备,非常适合侧向滑动装置正面区域等大型区域或长距离的防护。该设备的另一个亮点就是能够同时监测两个保护功能。这在许多应用领域中,独具优势以前需要使用两个设备,如今只需要使用一台这样的安全激光扫描仪,即可完成两台设备的功能。               实践中遇到的一项挑战是设计一款异常强骨的激光安全扫描仪。能够适应周围环境中可能存在的灰尘和颗粒等恶劣条件,因此我们提供了较分辨率达到0.1度的设备。它在目前市场上具有非常高的价值。   ...
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蓝光光源激光位移传感器:优势、原理与特殊场景解决方案 —— 泓川科技 LTP 系列 405nm 定制... 2025 - 10 - 21 在工业精密测量中,传统红光激光位移传感器常受高反射、半透明、高温红热等特殊场景限制,而蓝光光源(405nm 波长)凭借独特物理特性实现突破。以下通过 “一问一答” 形式,详解蓝光传感器的优势、原理构造,并结合泓川科技 LTP 系列定制方案,看其如何解决特殊环境测量难题。1. 蓝光光源激光位移传感器相比传统红光,核心优势是什么?蓝光传感器的核心优势源于 405nm 波长的物理特性,相比传统 655nm 左右的红光,主要体现在三方面:更高横向分辨率:根据瑞利判据,光学分辨率与波长成反比。蓝光波长仅为红光的 62%(405nm/655nm≈0.62),相同光学系统下横向分辨率可提升约 38%,能形成更小光斑(如泓川 LTP025 蓝光版光斑最小达 Φ18μm),适配芯片针脚、晶圆等微米级结构测量。更强信号稳定性:蓝光单光子能量达 3.06eV,远高于红光的 2.05eV。在低反射率材料(如橡胶、有机涂层)表面,能激发出更强散射信号;同时穿透性更低,仅在材料表层作用,避免内部折射干扰,适合表面精准测量。更优抗干扰能力:蓝光波段与红热辐射(500nm 以上)、户外强光(可见光为主)重叠度低,搭配专用滤光片后,可有效隔绝高温物体自发光、阳光直射等干扰,这是红光难以实现的。2. 蓝光激光位移传感器的原理构造是怎样的?为何能实现高精度测量?蓝光传感器的高精度的核心是 “光学设计 + 信号处理 + ...
泓川科技国产系列光谱共焦/激光位移传感器/白光干涉测厚产品性能一览 2025 - 09 - 05 高精度测量传感器全系列:赋能精密制造,适配多元检测需求聚焦半导体、光学膜、机械加工等领域的精密检测核心痛点,我们推出全系列高性能测量传感器,覆盖 “测厚、对焦、位移” 三大核心应用场景,以 “高精准、高速度、高适配” 为设计核心,为您的工艺控制与质量检测提供可靠技术支撑。以下为各产品系列的详细介绍:1.LTS-IR 红外干涉测厚传感器:半导体材料测厚专属核心用途:专为硅、碳化硅、砷化镓等半导体材料设计,精准实现晶圆等器件的厚度测量。性能优点:精度卓越:±0.1μm 线性精度 + 2nm 重复精度,确保测量数据稳定可靠;量程适配:覆盖 10μm2mm 测厚范围,满足多数半导体材料检测需求;高效高速:40kHz 采样速度,快速捕捉厚度数据,适配在线检测节奏;灵活适配:宽范围工作距离设计,可灵活匹配不同规格的检测设备与场景。2. 分体式对焦传感器:半导体 / 面板缺陷检测的 “高速对焦助手”核心用途:针对半导体、面板领域的高精度缺陷检测场景,提供高速实时对焦支持,尤其适配显微对焦类检测设备。性能优点:对焦速度快:50kHz 高速对焦,同步匹配缺陷检测的实时性需求;对焦精度高:0.5μm 对焦精度,保障缺陷成像清晰、检测无偏差;设计灵活:分体式结构,可根据检测设备的安装空间与布局灵活调整,降低适配难度。3. LT-R 反射膜厚仪:极薄膜厚检测的 “精密管家”核心用途:专注于极薄膜...
多方面研究泓川科技LTP系列大量程全国产激光位移传感器 2025 - 09 - 02 泓川科技激光位移传感器产品技术报告尊敬的客户: 感谢您对泓川科技激光位移传感器产品的关注与信任。为帮助您全面了解我司产品,现将激光位移传感器相关技术信息从参数指标、设计原理、结构设计等八大核心维度进行详细说明,为您的选型、使用及维护提供专业参考。一、参数指标我司激光位移传感器涵盖 LTP400 系列与 LTP450 系列,各型号核心参数经纳米级高精度激光干涉仪标定验证,确保数据精准可靠,具体参数如下表所示:表 1:LTP400EA参数表参数类别具体参数LTP400EA备注基础测量参数测量中心距离400mm以量程中心位置计算(*1)量程200mm-重复精度(静态)3μm测量标准白色陶瓷样件,50kHz 无平均,取 65536 组数据均方根偏差(*2)线性度±0.03%F.S.(F.S.=200mm)采用纳米级激光干涉仪标定(*3)光源与光斑光源类型-激光功率可定制,部分型号提供 405nm 蓝光版本(*4)光束直径聚焦点光斑 Φ300μm中心位置直径,两端相对变大(*5)电气参数电源电压DC9-36V-功耗约 2.5W-短路保护反向连接保护、过电流保护-输出与通信模拟量输出(选配)电压:0-5V/010V/-1010V;电流:420mA探头可独立提供电压、电流与 RS485 输出(*6)通讯接口RS485 串口、TCP/IP 网口可选配模拟电压 / 电流输出模块(*7)响应...
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