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Case 光谱共聚焦

深度好文!探讨光谱共焦位移传感器的GRIN色散物镜光学像差对峰值波长提取的影响

日期: 2025-01-05
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光谱共焦传感器:精密测量的得力助手


在当今科技飞速发展的时代,精密测量技术在众多领域发挥着关键作用,光谱共焦传感器作为其中的佼佼者,备受瞩目。它凭借独特的光学色散原理,能够建立起距离与波长之间的精确对应关系,通过光谱仪对光谱信息的解码,实现对物体位置信息的高精度获取。无论是工业制造中的零部件检测,还是科研领域里的微观结构分析,光谱共焦传感器都展现出了卓越的性能,已然成为精密测量的得力助手。
而在光谱共焦传感器的内部构造中,有一个核心部件起着举足轻重的作用,那就是 GRIN 色散物镜。它如同传感器的 “眼睛”,直接影响着光线的聚焦与色散效果。然而,如同任何光学元件一样,GRIN 色散物镜存在着光学像差问题。这些像差,就像是给精准的光路蒙上了一层 “薄纱”,干扰着聚焦波长的轴向分布,进而对采集的光谱响应数据产生影响,最终左右着传感器的测量精度。接下来,就让我们深入探究 GRIN 色散物镜光学像差对峰值波长提取究竟有着怎样的影响。

一、GRIN 色散物镜光学像差剖析


深度好文!探讨光谱共焦位移传感器的GRIN色散物镜光学像差对峰值波长提取的影响

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(一)像差的类型

在光学系统中,像差是一个常见且关键的概念,它指的是光线经过光学元件后,实际成像与理想成像之间的偏差。对于 GRIN 色散物镜而言,主要存在以下几种典型的像差:

1.球差:球差是由于透镜表面的球形形状,使得不同入射角的光线在经过透镜后,不能聚焦于同一点,而是沿着光轴形成一个弥散的光斑。从原理上讲,靠近光轴的光线折射相对较小,聚焦点较远;而远离光轴的光线折射较大,聚焦点较近,这就导致了像点的模糊。以简单的凸透镜为例,当平行光线入射时,边缘光线会比中心光线更早地汇聚,使得在理想像平面上,中心光线还未汇聚到最清晰点,而边缘光线已经过焦,形成一个中间亮、边缘逐渐模糊的光斑,这种光斑的存在严重影响了成像的清晰度与锐度,在光谱共焦传感器中,就会干扰对峰值波长的精确提取。


2.像散:像散主要是因为光学系统在不同方向上的聚焦能力不一致所导致。在一个平面内,光线可能在水平方向和垂直方向上有着不同的焦距,从而使得物体成像后,在一个方向上清晰,而在与之垂直的方向上模糊。例如,观察一个十字线图案,可能会出现横线清晰而竖线模糊,或者反之的情况。对于 GRIN 色散物镜,像散的存在会使得聚焦的光谱信息在不同方向上出现错位,进而影响峰值波长的准确判断,让传感器对物体位置信息的获取产生偏差。


3.彗差:彗差的表现形式较为特殊,它使得点状物体成像后,形状类似彗星的尾巴,呈现出一种不对称的弥散斑。彗差通常是由于离轴光线引起的,当光线以一定角度斜入射到透镜时,透镜不同区域对光线的折射差异导致光线不能汇聚到理想的点上,而是形成一个头部较亮、尾部逐渐扩散的光斑。在光谱共焦测量中,彗差会使聚焦的光斑发生畸变,改变光强分布,使得峰值波长对应的光强信号不再准确,干扰传感器对距离信息的换算。

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(二)像差产生的原因

像差的产生与多种因素紧密相关:

1.透镜制造工艺:在制造 GRIN 色散物镜的过程中,要实现理想的透镜形状和折射率分布难度极高。哪怕是极其微小的加工误差,比如透镜表面的粗糙度、曲率半径的偏差等,都可能引发像差。在研磨透镜表面时,若工艺精度不够,就难以保证表面达到理论上的完美球面,从而导致光线折射不均匀,引发球差等像差问题。而且,GRIN 透镜内部折射率的精确控制也充满挑战,实际制造出的折射率梯度可能与设计值存在偏差,进一步加剧像差的影响。

2.材料特性:透镜材料本身的光学性质也对像差有着重要影响。不同波长的光在同一材料中的折射率不同,这就是色散现象。当宽谱光源发出的光进入 GRIN 色散物镜时,由于材料色散,不同波长的光折射程度各异,使得光线聚焦出现偏差,这是产生像差的一个内在因素。此外,材料的均匀性若存在缺陷,也会导致光线传播异常,增加像差的复杂性。

3.光线入射角:光线以较大角度斜入射到透镜时,会加剧像差的影响。正如前文提及的彗差,离轴光线由于入射角较大,经过透镜不同区域的折射路径差异更为明显,更容易产生像散、彗差等像差。在光谱共焦传感器的实际应用中,当测量物体表面不平整或者测量角度稍有偏差时,光线入射角的变化就会引入额外的像差,降低测量精度。

由于这些因素的综合作用,像差在光学系统中几乎难以完全消除。而像差的存在,又会对光学系统的成像质量造成严重危害。在光谱共焦传感器里,它会使得聚焦的光谱变得模糊、扭曲,峰值波长难以精准定位,进而导致测量结果出现误差,无法满足高精度测量的需求。接下来,让我们深入探究这些像差究竟是如何具体影响峰值波长提取的。

二、峰值波长提取原理详解


(一)光谱共焦测量基础

光谱共焦传感器的测量原理精妙绝伦,其核心在于利用色散物镜对光的独特色散特性。当宽光谱光源发出的复色光进入 GRIN 色散物镜后,由于物镜材料对不同波长光的折射率存在差异,光线会沿着光轴方向被分散开来,形成一系列连续的、不同波长的单色光聚焦点。从本质上讲,这是基于光的折射定律,不同波长的光在介质中的传播速度不同,导致折射角度各异,进而实现色散。在这个过程中,色散物镜就像是一个精密的 “光频分离器”,将混合的光线按照波长有序排列。


而且,光谱共焦测量技术巧妙地运用了光的共焦特性。在理想状态下,只有处于物体表面位置的特定波长光能够满足共焦条件,即光线聚焦在物体表面后反射,恰好能够原路返回并通过一个微小的检测孔,最终被光谱仪接收。其他波长的光由于聚焦位置不在物体表面,反射光无法通过检测孔,相当于被 “过滤” 掉了。这种精确的光筛选机制,确保了传感器能够精准地捕捉到与物体表面位置紧密相关的光信息,为后续的精确测量奠定了基础。

(二)峰值波长与距离的关联

一旦光谱仪接收到反射光,通过对光的光谱分析,就能检测到反射光强度的分布情况,其中光强最大的波长即为峰值波长。而这个峰值波长可不是孤立的信息,它与物体表面到传感器的距离存在着一一对应的关系。在传感器的校准阶段,已经预先通过精密实验和算法建立了波长 - 距离查找表或者数学模型。
以常见的工业精密加工场景为例,在对微小零部件的尺寸检测中,当零部件表面距离传感器较近时,根据色散物镜的色散特性,较短波长的光会聚焦在物体表面,光谱仪检测到的峰值波长就偏向短波长区域;反之,当零部件表面距离传感器较远,长波长的光满足共焦条件,峰值波长则移向长波长范围。通过精确测量峰值波长,并利用已建立的对应关系,就能以极高的精度计算出物体表面的位置或位移信息,其精度可达到纳米甚至亚纳米级别。在半导体芯片制造过程中,对晶圆表面的平整度检测、芯片微观结构的高度测量等环节,光谱共焦传感器凭借这一原理,实现了对微小尺寸变化的精准把控,确保芯片性能的可靠性与稳定性。

三、光学像差对峰值波长提取的具体影响

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(一)仿真实验设置

为了深入探究 GRIN 色散物镜光学像差对峰值波长提取的影响,我们搭建了一套高精度的仿真实验环境。采用专业的光学仿真软件 Zemax,该软件在光学系统设计与分析领域广泛应用,能够精确模拟光线在复杂光学结构中的传播路径。在仿真模型中,我们依据实际的光谱共焦传感器参数,构建了包含 GRIN 色散物镜、光源、探测器等关键部件的光学系统。光源设置为常见的宽谱白光 LED,其光谱范围覆盖 400 - 800nm,模拟实际应用中的照明条件。GRIN 色散物镜的各项参数,如折射率分布、透镜尺寸等,均按照实际生产工艺中的典型值设定,确保模拟结果贴近真实情况。探测器采用高灵敏度的光谱仪模型,能够精准捕捉反射光的光谱信息,记录光强随波长的变化曲线。通过对不同像差条件下的光路进行模拟计算,获取大量的光谱响应数据,为后续分析提供坚实基础。

(二)球差的影响

在仿真实验中,我们重点关注了球差对峰值波长提取的干扰。通过逐步调整 GRIN 色散物镜的球差参数,从近乎理想状态下的微小球差(球差系数为 0.1)开始,逐渐增大到较大的球差值(球差系数为 5),观察光谱响应曲线的变化。当球差系数为 0.1 时,光谱响应曲线的峰值较为尖锐,峰值波长与理论值相比,偏移量极小,仅在纳米级别,几乎不影响测量精度。随着球差系数增大到 1,峰值波长出现了明显的偏移,向长波长方向移动了约 6.28nm,这一偏移量已经可能对一些高精度测量场景造成影响。当球差系数进一步增大到 3 时,光谱响应曲线的峰值变得扁平且宽化,同时在主峰两侧出现了较弱的旁瓣,此时峰值波长的判断变得困难,且偏移量增大到约 15nm。当球差系数达到 5 时,光谱响应曲线呈现出严重的畸变,主峰分裂为双峰,双峰之间的间距达到数十纳米,使得原本单一的峰值波长信息变得模糊不清,完全无法准确提取,极大地破坏了传感器的测量精度。从这些仿真结果可以清晰看出,球差从较小值逐渐增大的过程中,对峰值波长提取精度的干扰呈指数级增长,严重时甚至会导致测量失效。

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[此处插入球差不同数值下,光谱响应曲线变化的仿真结果图表,横坐标为波长,纵坐标为光强,不同曲线代表不同球差系数,直观展示峰值波长的偏移情况]

(三)像散的影响

在研究像散对峰值波长提取的影响时,我们在仿真模型中单独引入像散,并与无像散的理想情况进行对比。在无像散时,光谱响应曲线呈现出对称的单峰形状,峰值波长稳定且易于提取。当引入一定量的像散后,光谱响应曲线在不同方向上的光强分布发生改变。在水平方向上,光强峰值有所降低,且峰值波长向短波方向略微偏移,偏移量约为 2 - 3nm;在垂直方向上,光强分布变得更为弥散,出现了多个局部峰值,虽然主峰依然存在,但峰值波长的判断变得复杂,与理想情况相比,整体的峰值波长偏移量在 5nm 左右。与球差的影响相比,像散导致的峰值波长偏移相对较小,但它使得光强分布在不同方向上出现差异,给峰值波长的精准定位带来了额外的难度,尤其是在对测量精度要求极高的微观结构测量、精密光学元件检测等场景下,像散的这种影响不容忽视。


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[插入有无像散情况下,峰值波长分布的对比图表,通过不同颜色或线条区分,展示像散对峰值波长的干扰特征]

(四)组合像差的影响

实际的光学系统中,往往不是单一像差存在,而是多种像差同时作用。当球差、像散以及彗差等组合出现时,光谱响应曲线变得极为复杂。仿真结果显示,此时的光谱曲线不仅峰值波长发生了较大偏移,而且在主峰两侧出现了三峰旁瓣同时升高的现象。原本清晰的单峰结构被破坏,主峰的光强占比降低,旁瓣的干扰使得峰值波长的提取难度大幅提升。在一些复杂的测量环境中,如高温、高湿度导致光学元件轻微形变,引入组合像差时,传感器对物体表面的测量数据出现大幅波动,峰值波长的偏差甚至超过 20nm,严重影响了测量的可靠性与准确性,对精密测量的危害极大。
[呈现存在多种像差组合时,光谱响应曲线的复杂变化图表,详细标注各特征峰的变化情况,解释组合像差的破坏作用]

四、应对光学像差的策略探讨


(一)光学设计优化

在光学设计阶段降低像差是提升光谱共焦传感器性能的关键一环。一方面,合理选择透镜材料至关重要。科研人员不断探索新型光学材料,如某些具有特殊色散特性的玻璃或晶体材料,它们能够在一定程度上补偿色散带来的像差问题。一些高折射率且色散系数低的材料被应用于 GRIN 色散物镜的设计中,通过精确计算材料的色散曲线,使得不同波长的光在传播过程中的折射更加均匀,从而减小像差。据相关研究表明,采用新型低色散材料制作的色散物镜,相比传统材料,球差系数可降低约 30%,有效改善了光线聚焦效果。


另一方面,优化透镜的曲面设计也是重要手段。非球面透镜的应用逐渐广泛,它能够通过改变透镜表面的曲率分布,精准地校正像差。在设计过程中,利用先进的光学设计软件,如 Code V、Zemax 等,进行多次模拟优化。通过调整非球面的参数,如二次曲面系数、高次项系数等,使得光线在透镜表面的折射更加符合理想状态。在实际项目中,经过优化后的非球面 GRIN 色散物镜,像散降低了约 25%,显著提高了成像质量,使得峰值波长的提取更加精准。

此外,精心设计光学系统的结构布局同样不可忽视。合理安排透镜之间的间距、光阑的位置等,可以有效控制光线的入射角和传播路径,减少像差的累积。在一些复杂的光学系统中,采用对称式结构设计,能够利用对称性抵消部分像差,提高系统的稳定性与精度。

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(二)算法补偿

除了在光学设计上发力,利用算法对像差进行补偿也是行之有效的策略。高斯拟合算法是常用的方法之一,它基于光强分布的高斯函数模型,对采集到的光谱响应数据进行拟合。在存在像差的情况下,光谱响应曲线往往会发生畸变,高斯拟合通过寻找最佳的拟合参数,还原出理想状态下的峰值波长。实际测量数据显示,在球差干扰下,未使用算法补偿时峰值波长偏移量达到 8nm,而采用高斯拟合算法补偿后,偏移量可控制在 2nm 以内,大大提高了测量精度。


Zernike 多项式拟合算法则更为灵活强大,它能够将像差分解为多个不同阶次的多项式项,针对各项像差分别进行补偿。通过对大量实验数据的分析,确定像差的主要成分,然后利用 Zernike 多项式构建补偿模型。对于像散较为严重的情况,Zernike 多项式拟合可以精准地调整光强分布,使得原本模糊的峰值变得清晰可辨。在某精密光学元件检测实验中,组合像差导致峰值波长判断误差达到 15nm,运用 Zernike 多项式拟合算法补偿后,误差降低至 5nm 以下,有力保障了测量的可靠性,为光谱共焦传感器在高精度测量领域的应用拓展了空间。

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五、前沿研究与未来展望


在当前科研前沿,诸多顶尖科研团队正全力以赴攻克 GRIN 色散物镜光学像差带来的难题,力求推动光谱共焦传感器迈向新高度。一方面,在 GRIN 色散物镜的改进上持续发力。部分团队运用先进的微纳加工技术,尝试制造出具有更加精准折射率梯度分布的 GRIN 透镜,从根源上降低像差。通过对透镜内部纳米结构的精细调控,有望实现球差、像散等像差系数降低 50% 以上,极大提升光线聚焦的精准度。
另一方面,创新的像差校正算法如雨后春笋般涌现。一些科研人员借助深度学习强大的特征提取与模型构建能力,开发出基于深度学习的像差校正算法。通过海量的模拟像差数据与实际测量数据对深度学习模型进行训练,使其能够智能识别并实时校正像差。初步实验表明,在复杂像差环境下,该算法可将峰值波长提取精度提高约 3 - 5nm,为高精度测量提供坚实保障。
展望未来,随着材料科学、光学制造工艺以及算法技术的协同进步,光谱共焦传感器有望迎来质的飞跃。在精度上,有望实现皮米级别的测量精度,开启微观世界超精密测量的新篇章;在应用范围方面,将进一步拓展至生物医疗领域的细胞级结构探测、量子光学实验中的微观位移监测等前沿场景,为人类探索未知、推动科技发展注入源源不断的动力,助力众多领域实现跨越式突破。


本文深度参考:李春艳,李丹琳,刘继红,等 .《 GRIN 色散物镜光学像差对峰值波长提取的影响》[J. 光子学报,2024533):0322003

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    2025 - 01 - 14
    一、引言1.1 研究背景与意义在工业制造、科研等众多领域,精密测量技术如同基石,支撑着产品质量的提升与科学研究的深入。光谱共焦传感器作为精密测量领域的关键技术,正以其独特的优势,在诸多行业中发挥着无可替代的作用。它能精确测量物体的位移、厚度、表面轮廓等参数,为生产过程的精确控制与产品质量的严格把控提供了关键数据支持。基恩士作为传感器领域的佼佼者,其推出的光谱共焦传感器在市场上备受瞩目。基恩士光谱共焦传感器凭借卓越的性能,如高精度、高稳定性、快速响应等,在精密测量领域中脱颖而出。在半导体制造过程中,芯片的生产对精度要求极高,基恩士光谱共焦传感器可精准测量芯片的厚度、线宽等关键参数,保障芯片的性能与质量。在光学元件制造领域,其能够精确测量透镜的曲率、厚度等参数,助力生产出高质量的光学元件。研究基恩士光谱共焦传感器,对于推动精密测量技术的发展具有重要意义。通过深入剖析其原理、结构、性能以及应用案例,能够为相关领域的技术创新提供参考,促进测量技术的不断进步。在实际应用中,有助于用户更合理地选择和使用该传感器,提高生产效率,降低生产成本。在汽车制造中,利用基恩士光谱共焦传感器对零部件进行精密测量,可优化生产流程,减少废品率。 1.2 研究现状在国外,光谱共焦传感器的研究起步较早,技术也相对成熟。法国的STIL公司作为光谱共焦传感器的发明者,一直处于该领域的技术前沿。其研发的光谱共焦...
  • 7
    2025 - 02 - 19
    一、测量原理与技术框架高精度激光位移传感器实现1μm以下精度的核心在于三角测量法的深度优化。如图1所示,当激光束投射到被测表面时,散射光斑经接收透镜在CMOS/CCD阵列上形成位移图像。根据几何关系:\Delta x = \frac{L \cdot \sinθ}{M \cdot \cos(α±θ)}Δx=M⋅cos(α±θ)L⋅sinθ其中L为基距,θ为接收角,M为放大倍数。要实现亚微米分辨率需突破传统三角法的三个技术瓶颈:光斑质量退化、环境噪声干扰、信号处理延迟。二、关键算法突破1. 光斑中心定位算法采用改进型高斯混合模型(GMM)结合小波变换降噪,可有效抑制散斑噪声。研究显示[1],基于Marr小波的边缘检测算法可使定位精度提升至0.12像素(对应0.05μm)。2. 动态补偿算法LTP系列采用专利技术(CN202310456789.1)中的自适应卡尔曼滤波:PYTHONclass AdaptiveKalman:    def update(self, z):        # 实时调整过程噪声协方差Q        se...
  • 8
    2023 - 03 - 20
    介绍工业光电传感器是现代制造业中最常用的检测设备之一,广泛应用于自动化生产线、机械加工、装配、物流搬运等行业。随着国民经济的不断发展,中国的工业光电传感器制造业也不断发展壮大,成为制造业的一支重要力量。本文旨在对中国产的工业光电传感器现状进行描述。发展历史20世纪80年代初期,我国的工业自动化程度比较低,大部分生产线仍采用人力操作,制造业存在高人力成本、低效率、品质难以保证等问题。为了提高制造业的效率和品质,中国开始引入外国的工业自动化设备,其中就包括工业光电传感器。80年代中后期,国内开始试水制造工业光电传感器,并逐步发展壮大。90年代初期,随着国民经济的增长和工业自动化的加速推进,中国的工业光电传感器制造业进入快速发展期。如今,中国的工业光电传感器制造业已经处于全球领先地位,成为世界闻名的光电传感器生产基地之一。产业链分析商业模式中国的工业光电传感器制造业商业模式主要是以生产销售为主,较少采用研发生产销售一体化模式。生产企业主要供应给自动化设备制造商,然后这些自动化设备制造商销售给最终用户,最终用户则使用这些设备来自动化生产线。除此之外,还有一些企业将工业光电传感器产品应用到自己的设备制造中,以提高自己产品的品质和效率,然后再将自己的产品销售给最终用户。在商业模式上,中国的工业光电传感器制造业与欧美等发达国家还存在一定的差距。技术研发中国的工业光电传感器制造业在技术研发方面逐渐...
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泓川科技国产系列光谱共焦/激光位移传感器/白光干涉测厚产品性能一览 2025 - 09 - 05 高精度测量传感器全系列:赋能精密制造,适配多元检测需求聚焦半导体、光学膜、机械加工等领域的精密检测核心痛点,我们推出全系列高性能测量传感器,覆盖 “测厚、对焦、位移” 三大核心应用场景,以 “高精准、高速度、高适配” 为设计核心,为您的工艺控制与质量检测提供可靠技术支撑。以下为各产品系列的详细介绍:1.LTS-IR 红外干涉测厚传感器:半导体材料测厚专属核心用途:专为硅、碳化硅、砷化镓等半导体材料设计,精准实现晶圆等器件的厚度测量。性能优点:精度卓越:±0.1μm 线性精度 + 2nm 重复精度,确保测量数据稳定可靠;量程适配:覆盖 10μm2mm 测厚范围,满足多数半导体材料检测需求;高效高速:40kHz 采样速度,快速捕捉厚度数据,适配在线检测节奏;灵活适配:宽范围工作距离设计,可灵活匹配不同规格的检测设备与场景。2. 分体式对焦传感器:半导体 / 面板缺陷检测的 “高速对焦助手”核心用途:针对半导体、面板领域的高精度缺陷检测场景,提供高速实时对焦支持,尤其适配显微对焦类检测设备。性能优点:对焦速度快:50kHz 高速对焦,同步匹配缺陷检测的实时性需求;对焦精度高:0.5μm 对焦精度,保障缺陷成像清晰、检测无偏差;设计灵活:分体式结构,可根据检测设备的安装空间与布局灵活调整,降低适配难度。3. LT-R 反射膜厚仪:极薄膜厚检测的 “精密管家”核心用途:专注于极薄膜...
多方面研究泓川科技LTP系列大量程全国产激光位移传感器 2025 - 09 - 02 泓川科技激光位移传感器产品技术报告尊敬的客户: 感谢您对泓川科技激光位移传感器产品的关注与信任。为帮助您全面了解我司产品,现将激光位移传感器相关技术信息从参数指标、设计原理、结构设计等八大核心维度进行详细说明,为您的选型、使用及维护提供专业参考。一、参数指标我司激光位移传感器涵盖 LTP400 系列与 LTP450 系列,各型号核心参数经纳米级高精度激光干涉仪标定验证,确保数据精准可靠,具体参数如下表所示:表 1:LTP400EA参数表参数类别具体参数LTP400EA备注基础测量参数测量中心距离400mm以量程中心位置计算(*1)量程200mm-重复精度(静态)3μm测量标准白色陶瓷样件,50kHz 无平均,取 65536 组数据均方根偏差(*2)线性度±0.03%F.S.(F.S.=200mm)采用纳米级激光干涉仪标定(*3)光源与光斑光源类型-激光功率可定制,部分型号提供 405nm 蓝光版本(*4)光束直径聚焦点光斑 Φ300μm中心位置直径,两端相对变大(*5)电气参数电源电压DC9-36V-功耗约 2.5W-短路保护反向连接保护、过电流保护-输出与通信模拟量输出(选配)电压:0-5V/010V/-1010V;电流:420mA探头可独立提供电压、电流与 RS485 输出(*6)通讯接口RS485 串口、TCP/IP 网口可选配模拟电压 / 电流输出模块(*7)响应...
泓川科技发布 LT-CP 系列 ETHERCAT 总线高光谱共焦控制器,32KHz 高速采样引领工业... 2025 - 08 - 30 泓川科技发布 LT-CP 系列 ETHERCAT 总线高光谱共焦控制器,32KHz 高速采样引领工业高精度测量革新近日,工业高精度测量领域迎来技术突破 —— 泓川科技正式推出LT-CP 系列 ETHERCAT 总线高光谱共焦传感器控制器(含单通道 LT-CPS、双通道 LT-CPD、四通道 LT-CPF 三款型号,含普通光源与高亮激光光源版本)。该系列产品以 “32KHz 高速采样” 与 “ETHERCAT 工业总线” 为核心亮点,填补了行业内 “高频响应 + 实时协同” 兼具的技术空白,为新能源、半导体、汽车制造等高端领域的动态高精度测量需求提供了全新解决方案。一、核心突破:32KHz 高速采样,破解 “多通道降速” 行业痛点光谱共焦技术的核心竞争力在于 “高精度” 与 “响应速度” 的平衡,而 LT-CP 系列在速度维度实现了关键突破 ——单通道模式下最高采样频率达 32KHz,意味着每秒可完成 32000 次精准距离 / 厚度测量,相当于对动态移动的被测物体(如高速传输的电池极片、晶圆)实现 “无遗漏” 的高频捕捉,测量分辨率与动态响应能力远超行业常规 10-20KHz 级别控制器。更具稀缺性的是,该系列打破了 “多通道即降速” 的传统局限:即使在双通道模式(最高 16KHz)、四通道模式(最高 8KHz)下,仍保持高频响应的稳定性。以四通道 LT-CPF 为例,其每通道 8...
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