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项目案例 Case
Case 激光位移

基于光谱共焦的在线集成表面粗糙度测量方法

日期: 2022-02-22
浏览次数: 72

摘要:为了提高加工检测效率,实现尺寸形位公差与微观轮廓的同平台测量,提出一种基于光谱共焦位移传感器在现场坐标测量平台上集成表面粗糙度测量的方法。搭建实验测量系统且在Lab VIEW平台上开发系统的硬件通讯控制模块,并配套了高斯轮廓滤波处理及表面粗糙度的评价环境,建立了非接触的表面粗糙度测量能力。对标准台阶、表面粗糙度标准样块和曲面轮廓样品进行了测量,实验结果表明:该测量系统具有较高的测量精度和重复性,粗糙度参数Ra的测量重复性为0.0026μm,在优化零件检测流程和提高整体检测效率等方面具有一定的应用前景。

关键词:计量学;表面粗糙度;光谱共焦;测量控制;在线集成;轮廓滤波器

1     引言

表面粗糙度是描述表面微观轮廓基本特点,评价产品表面质量最常用的参数之一。在机械加工、薄膜制备、微纳机电系统、光学精密加工等领域中,表面粗糙度是评价产品性能的重要指标之一。表面粗糙度与加工零部件的摩擦磨损性能、耐腐蚀性能、结合密封性、抗疲劳能力等存在必然联系,进而对零件和制造设备的稳定性和可靠性产生重要影响。表面粗糙度也是开展功能结构部件微观表面形貌评价与表征的重要参数。

然而,目前在表面粗糙度和微观轮廓的测量工业应用中,常见使用的是宝石触针接触式轮廓仪和扫描白光干涉轮廓仪等精密设备。这两种精密仪器对使用环境和条件要求较为严格,不适合用于要求高检测效率和在线测量的工业现场。

三坐标测量机是加工现场最常用的高精度产品尺寸及形位公差检测设备,其具有通用性强,精确可靠等优点。本文面向一种特殊材料异型结构零件内曲面的表面粗糙度测量要求,提出一种基于高精度光谱共焦位移传感技术的表面粗糙度集成在线测量方法,利用工业现场常用的三坐标测量机平台执行轮廓扫描,并记录测量扫描位置实时空间横坐标,根据空间坐标关系,将测量扫描区域的微观高度信息和扫描采样点组织映射为微观轮廓,经高斯滤波处理和评价从而得到测量对象的表面粗糙度信息。

2     测量系统及原理

2.1   测量系统

在线集成表面粗糙度测量系统是以一台三坐标测量机(CMM)为平台构建,其结构由光学探头、白光光源、微型光谱仪、光纤、测量工装、上位机控制平台等部分组成,见图1。其中,以光学探头、白光光源、微型光谱仪、光纤等为主要元件组成光谱共焦位移传感系统,测量量程300μm,横向分辨率为4.5μm,纵向位移测量精度达nm级,较好地满足表面粗糙度测量对光探针尺寸和精度的要求。坐标测量平台利用其高精度和稳定的三维空间运动定位能力以及方便在线部署的特点,作为表面粗糙度测量的扫描运动执行器。


基于光谱共焦的在线集成表面粗糙度测量方法

1测量系统结构图

根据系统结构特点和坐标测量机测量臂末端接口形式,将光学探头通过转接紧固件可靠固定在测量臂末端,如图2所示。

基于光谱共焦的在线集成表面粗糙度测量方法

2安装示意图

2.    2     测量原理和流程


基于光谱共焦的在线集成表面粗糙度测量方法

3光谱共焦位移传感原理图

通过特殊光学设计形成的透镜组将白光光源发出的多色平行光进行光谱分光,形成一系列波长不同的单色光,同时再将其同轴聚焦,由此在有效量程范围内形成了一个焦点组,每一个焦点的单色光波长都对应着一个轴向位置。测量时通过光谱仪分析光谱峰值结合峰值提取算法从而确定被测点的高度位置信息。

表面粗糙度测量方法具体流程如下:

(1)待测工件定位。将待测工件平稳置于坐标测量机测量平台上,调用标准红宝石测针测量其空间位置和姿态,为按测量工艺要求确定测量位置提供数据。

(2)轮廓扫描。测量机测量臂更换挂载光谱共焦传感器的光学探头,驱动探头运动至工件测量位置,调整光源光强、光谱仪曝光时间和采集频率等参数以保证传感器处于较好的工作状态,编辑扫描步距、速度等运动参数后启动轮廓扫描测量,并在上位机上同步记录扫描过程中的横向坐标和传感器高度信息,映射成为测量区域的二维微观轮廓。

(3)表面粗糙度计算与评价。将扫描获取的二维微观轮廓数据输入到轮廓处理算法内进行计算,按照有关国际标准选择合适的截止波长,按高斯轮廓滤波方法对原始轮廓进行滤波处理,得到其表面粗糙度轮廓,并计算出粗糙度轮廓的评价中线,再按照表面粗糙度的相关评价指标的计算方法得出测量结果,最后得到被测工件的表面粗糙度信息。

3     硬件控制与轮廓处理环境的建立

3.    1     测量系统硬件控制架构

对工件微观轮廓的扫描和表面粗糙度测量,需在同一平台上协调控制扫描执行器和位移传感器。

基于USB和Ethernet通讯接口和协议,在上位机LabVIEW开发环境下进行了测头传感器和运动机构的通讯、控制、调节和数据流传输等功能的二次开发,形成了较为完善的测量系统硬件通讯控制架构,主体系统控制结构如图4所示。


基于光谱共焦的在线集成表面粗糙度测量方法

4系统控制结构图

为了方便使用和测量,为控制系统开发了人机交互较为便捷的界面窗口,见图5,可方便的调控传感器相关参数指标,并预览扫描过程中的轮廓信息。还可以预设和编辑扫描运动策略,调整存储数据的名称等功能,并额外的增加了光谱信号展示、集成轮廓滤波与评价方法等功能,可以实现扫描测量后及时的数据输出。


基于光谱共焦的在线集成表面粗糙度测量方法

5表面粗糙度测量系统控制前面板

3.    2     高斯轮廓处理方法

表面轮廓示意图如图6所示,传感器除了采集表面粗糙度信息之外,还将采集波纹度,几何形状等信息。轮廓滤波处理是指将轮廓信息分为不同频率成分。


基于光谱共焦的在线集成表面粗糙度测量方法

6表面轮廓示意图

在轮廓处理算法中增加了整体轮廓预览、波纹度分析和数据整体等功能模块,其算法设计流程如图7所示,图7中的相关参数在GB/T3505中已作了明确定义。

基于光谱共焦的在线集成表面粗糙度测量方法

7轮廓处理方法流程

利用LabVIEWMatlab的混合编程模块,将高斯轮廓滤波及评价方法集成到了LabVIEW程序面板中,使用时调整滤波参数可及时调用滤波和评价算法实现测量数据的实时处理。

4     实验

为验证表面粗糙度测量系统测量的有效性,对标准台阶样品、标准表面粗糙度样块测试实验和某异形车削零件曲面轮廓表面粗糙度的测量实验。


4.    1     标准台阶测试实验

测试所用的标准样品上刻有两个测试台阶位置,其标称高度分别为9.3μm9.4μm。利用搭建的测量系统沿台阶垂直方向对该样板进行扫描,对测量采集的数据轮廓进行校平、最小二乘拟合等处理,计算得两处台阶位置高度差分别为9.27μm9.36μm,台阶轮廓如图8所示。


基于光谱共焦的在线集成表面粗糙度测量方法

8标准台阶的扫描轮廓

4.2   表面粗糙度标准样块测试实验

测试选用的为三角波纹理表面粗糙度标准样块,附DKD检定证书,其表面粗糙度算术平均偏差Ra的标定值为0.37μm。采用构建的集成表面粗糙度测量系统对标准样品进行测量验证测试。在标准样块刻线处选取3个不同测试位置,每个测试位置重复测量3次,见图9

基于光谱共焦的在线集成表面粗糙度测量方法

9测量位置示意图

利用高斯滤波方法对原始轮廓数据进行表面粗糙轮廓滤波处理,并基于最小二乘中线分析计算其表面粗糙度算术评价偏差Ra

轮廓计算处理过程中,位置Ⅱ的原始轮廓和滤波处理后的表面粗糙度轮廓如图10所示。

基于光谱共焦的在线集成表面粗糙度测量方法

10位置的原始轮廓和表面粗糙度轮廓

4.3   曲面轮廓测量样品测量实验

如图2所示的工件的内球曲面为其工作面,设计球径为180mm,采用车削加工成型,其加工和检测工艺上要求在其内球曲面不同的角度位置上检测型面表面粗糙度情况。在零件内球曲面轮廓的回转母线上回避顶点标记3段不同角度的测量位置,利用表面粗糙度测量,图11所示是位置的原始轮廓和滤波处理后的表面粗糙度轮廓。从图11可以看出,测量结果较稳定、可靠。

基于光谱共焦的在线集成表面粗糙度测量方法

11位置的原始轮廓与表面粗糙度轮廓

5     结论

本文面向一种特殊材料异型结构零件内曲面的表面粗糙度集成在线测量的要求,提出一种在坐标测量平台上集成光谱共焦传感器的方法,设计构建的测量系统,面向表面粗糙度测量的全流程建立了硬件控制与轮廓处理环境,进行了多项测量实验。实验结果表明:该测量系统具有较高的测量精度和重复性,粗糙度参数Ra的测量重复性为0.0026μm,通过优化零件检测过程,整体上缩短零件近30%的检测时间,可用于零件生产加工现场对表面粗糙度进行在线测量。

论文标题:

A Method of On-line Integration Roughness Measurement Based on Chromatic Spectrum Confocal


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泓川科技国产系列光谱共焦/激光位移传感器/白光干涉测厚产品性能一览 2025 - 09 - 05 高精度测量传感器全系列:赋能精密制造,适配多元检测需求聚焦半导体、光学膜、机械加工等领域的精密检测核心痛点,我们推出全系列高性能测量传感器,覆盖 “测厚、对焦、位移” 三大核心应用场景,以 “高精准、高速度、高适配” 为设计核心,为您的工艺控制与质量检测提供可靠技术支撑。以下为各产品系列的详细介绍:1.LTS-IR 红外干涉测厚传感器:半导体材料测厚专属核心用途:专为硅、碳化硅、砷化镓等半导体材料设计,精准实现晶圆等器件的厚度测量。性能优点:精度卓越:±0.1μm 线性精度 + 2nm 重复精度,确保测量数据稳定可靠;量程适配:覆盖 10μm2mm 测厚范围,满足多数半导体材料检测需求;高效高速:40kHz 采样速度,快速捕捉厚度数据,适配在线检测节奏;灵活适配:宽范围工作距离设计,可灵活匹配不同规格的检测设备与场景。2. 分体式对焦传感器:半导体 / 面板缺陷检测的 “高速对焦助手”核心用途:针对半导体、面板领域的高精度缺陷检测场景,提供高速实时对焦支持,尤其适配显微对焦类检测设备。性能优点:对焦速度快:50kHz 高速对焦,同步匹配缺陷检测的实时性需求;对焦精度高:0.5μm 对焦精度,保障缺陷成像清晰、检测无偏差;设计灵活:分体式结构,可根据检测设备的安装空间与布局灵活调整,降低适配难度。3. LT-R 反射膜厚仪:极薄膜厚检测的 “精密管家”核心用途:专注于极薄膜...
多方面研究泓川科技LTP系列大量程全国产激光位移传感器 2025 - 09 - 02 泓川科技激光位移传感器产品技术报告尊敬的客户: 感谢您对泓川科技激光位移传感器产品的关注与信任。为帮助您全面了解我司产品,现将激光位移传感器相关技术信息从参数指标、设计原理、结构设计等八大核心维度进行详细说明,为您的选型、使用及维护提供专业参考。一、参数指标我司激光位移传感器涵盖 LTP400 系列与 LTP450 系列,各型号核心参数经纳米级高精度激光干涉仪标定验证,确保数据精准可靠,具体参数如下表所示:表 1:LTP400EA参数表参数类别具体参数LTP400EA备注基础测量参数测量中心距离400mm以量程中心位置计算(*1)量程200mm-重复精度(静态)3μm测量标准白色陶瓷样件,50kHz 无平均,取 65536 组数据均方根偏差(*2)线性度±0.03%F.S.(F.S.=200mm)采用纳米级激光干涉仪标定(*3)光源与光斑光源类型-激光功率可定制,部分型号提供 405nm 蓝光版本(*4)光束直径聚焦点光斑 Φ300μm中心位置直径,两端相对变大(*5)电气参数电源电压DC9-36V-功耗约 2.5W-短路保护反向连接保护、过电流保护-输出与通信模拟量输出(选配)电压:0-5V/010V/-1010V;电流:420mA探头可独立提供电压、电流与 RS485 输出(*6)通讯接口RS485 串口、TCP/IP 网口可选配模拟电压 / 电流输出模块(*7)响应...
泓川科技发布 LT-CP 系列 ETHERCAT 总线高光谱共焦控制器,32KHz 高速采样引领工业... 2025 - 08 - 30 泓川科技发布 LT-CP 系列 ETHERCAT 总线高光谱共焦控制器,32KHz 高速采样引领工业高精度测量革新近日,工业高精度测量领域迎来技术突破 —— 泓川科技正式推出LT-CP 系列 ETHERCAT 总线高光谱共焦传感器控制器(含单通道 LT-CPS、双通道 LT-CPD、四通道 LT-CPF 三款型号,含普通光源与高亮激光光源版本)。该系列产品以 “32KHz 高速采样” 与 “ETHERCAT 工业总线” 为核心亮点,填补了行业内 “高频响应 + 实时协同” 兼具的技术空白,为新能源、半导体、汽车制造等高端领域的动态高精度测量需求提供了全新解决方案。一、核心突破:32KHz 高速采样,破解 “多通道降速” 行业痛点光谱共焦技术的核心竞争力在于 “高精度” 与 “响应速度” 的平衡,而 LT-CP 系列在速度维度实现了关键突破 ——单通道模式下最高采样频率达 32KHz,意味着每秒可完成 32000 次精准距离 / 厚度测量,相当于对动态移动的被测物体(如高速传输的电池极片、晶圆)实现 “无遗漏” 的高频捕捉,测量分辨率与动态响应能力远超行业常规 10-20KHz 级别控制器。更具稀缺性的是,该系列打破了 “多通道即降速” 的传统局限:即使在双通道模式(最高 16KHz)、四通道模式(最高 8KHz)下,仍保持高频响应的稳定性。以四通道 LT-CPF 为例,其每通道 8...
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