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泓川科技激光位移传感器产品技术报告尊敬的客户: 感谢您对泓川科技激光位移传感器产品的关注与信任。为帮助您全面了解我司产品,现将激光位移传感器相关技术信息从参数指标、设计原理、结构设计等八大核心维度进行详细说明,为您的选型、使用及维护提供专业参考。一、参数指标我司激光位移传感器涵盖 LTP400 系列与 LTP450 系列,各型号核心参数经纳米级高精度激光干涉仪标定验证,确保数据精准可靠,具体参数如下表所示:表 1:LTP400EA参数表参数类别具体参数LTP400EA备注基础测量参数测量中心距离400mm以量程中心位置计算(*1)量程200mm-重复精度(静态)3μm测量标准白色陶瓷样件,50kHz 无平均,取 65536 组数据均方根偏差(*2)线性度±0.03%F.S.(F.S.=200mm)采用纳米级激光干涉仪标定(*3)光源与光斑光源类型-激光功率可定制,部分型号提供 405nm 蓝光版本(*4)光束直径聚焦点光斑 Φ300μm中心位置直径,两端相对变大(*5)电气参数电源电压DC9-36V-功耗约 2.5W-短路保护反向连接保护、过电流保护-输出与通信模拟量输出(选配)电压:0-5V/010V/-1010V;电流:420mA探头可独立提供电压、电流与 RS485 输出(*6)通讯接口RS485 串口、TCP/IP 网口可选配模拟电压 / 电流输出模块(*7)响应时间20us/50us/100us/125us/200us/500us/1ms,最高 6.25us 可选-性能参数采样频率Max. 50kHz(全量程)/Max. 160kHz(全量程缩小到 20%)-外部输入功能激光关闭、采样保持、单脉冲触发、归零等-环境与结构防护等级IP67(IEC)-工作温度0°C+50℃(不可结露、结冰);保存温度:-20℃+70℃(可订制 - 40℃70℃...
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更新日期: 2025 - 09 - 02
泓川科技发布 LT-CP 系列 ETHERCAT 总线高光谱共焦控制器,32KHz 高速采样引领工业高精度测量革新近日,工业高精度测量领域迎来技术突破 —— 泓川科技正式推出LT-CP 系列 ETHERCAT 总线高光谱共焦传感器控制器(含单通道 LT-CPS、双通道 LT-CPD、四通道 LT-CPF 三款型号,含普通光源与高亮激光光源版本)。该系列产品以 “32KHz 高速采样” 与 “ETHERCAT 工业总线” 为核心亮点,填补了行业内 “高频响应 + 实时协同” 兼具的技术空白,为新能源、半导体、汽车制造等高端领域的动态高精度测量需求提供了全新解决方案。一、核心突破:32KHz 高速采样,破解 “多通道降速” 行业痛点光谱共焦技术的核心竞争力在于 “高精度” 与 “响应速度” 的平衡,而 LT-CP 系列在速度维度实现了关键突破 ——单通道模式下最高采样频率达 32KHz,意味着每秒可完成 32000 次精准距离 / 厚度测量,相当于对动态移动的被测物体(如高速传输的电池极片、晶圆)实现 “无遗漏” 的高频捕捉,测量分辨率与动态响应能力远超行业常规 10-20KHz 级别控制器。更具稀缺性的是,该系列打破了 “多通道即降速” 的传统局限:即使在双通道模式(最高 16KHz)、四通道模式(最高 8KHz)下,仍保持高频响应的稳定性。以四通道 LT-CPF 为例,其每通道 8KHz 的采样频率,可同时满足 4 个工位的同步检测需求,且单次测量误差控制在微米级,完美适配 “高效量产 + 高精度质控” 的高端制造场景(如新能源电池多极片同步厚度检测、半导体封装多工位尺寸监控)。从技术原理看,32KHz 高速采样的实现依赖泓川科技对 “光源驱动 - 信号采集 - 数据处理” 链路的深度优化:激光光源版本(LT-CPS-L/LT-CPD-L/LT-CPF-L)采用高功率密度单...
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更新日期: 2025 - 08 - 30
背景与挑战随着电子封装技术的快速发展,直接镀铜陶瓷基板(DPC)因具备优异的导热性、机械强度及耐高温性能,被广泛应用于大功率LED、IGBT模块等领域。然而,其表面金属镀层的厚度均匀性直接影响器件的散热效率与可靠性。某客户需对一批DPC基板进行全检,要求**在正反面各选取10个金属块(含2个重复基准点)**进行高精度厚度测量,并同步获取表面轮廓与中心区高度数据,以满足严格的工艺质量控制标准。解决方案针对客户需求,我们采用LTC1200系列光谱共焦传感器(配套高精度运动平台与测控软件),设计了一套非接触式三维测厚方案:设备选型量程:±600μm(覆盖金属层典型厚度范围)重复精度:0.03μm(静态,确保基准点数据一致性)线性误差:<±0.3μm(满足亚微米级公差要求)采样频率:10kHz(高速扫描提升检测效率)选用LTC1200B型号传感器(光斑直径约19μm),兼顾测量精度与金属表面反射特性需求,其技术参数如下:搭配亚微米级定位平台,确保扫描路径精确控制。基准点设定以陶瓷基板裸露区域作为基准面,在正反面各设置2个重复测量点,通过传感器实时比对基准高度数据,消除基板翘曲或装夹误差对厚度计算的影响。实施流程数据采集:沿预设路径扫描金属块,同步记录轮廓点云与中心区高度(软件自动拟合最高点作为厚度参考值)。厚度计算:基于公式:\text{金属层厚度} = \text{金...
发布时间: 2025 - 03 - 06
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一、核心参数对比表参数项LK-G08(基恩士)LTPD08(泓川科技国产)参考距离8 mm8 mm检测范围±0.8 mm±0.8 mm线性度±0.05% F.S.±0.03% F.S.重复精度0.02 μm0.03 μm采样频率20 μs1 ms(6档可调)6.25 μs1 ms(多档可调)激光类别1类(JIS C6802)2类(安全等级更高)光源功率0.3 mW0.5 mW(可定制更高功率)防护等级未标注IP67工作温度+10+40°C0+50°C(可定制-4070°C)通讯接口未标注RS485、TCP/IP、开发包支持供电电压-DC 936V(±10%波动兼容)重量245 g213 g二、性能差异深度解析1. 测量性能精度与速度: LK-G08在重复精度(0.02μm)上略优,适合超精密场景;而LTPD08的线性度(±0.03% F.S.)更优,且在采样频率上支持最高6.25μs(缩小量程时可达160kHz),动态响应能力更强。激光适应性: LTPD08提供405nm蓝光版本可选,可应对高反光或透明材质测量,基恩士仅支持655nm红光。2. 环境适应性防护等级: LTPD08的IP67防护显著优于未标注防护的LK-G08,适...
发布时间: 2025 - 03 - 04
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在工业自动化领域,激光位移传感器是精密测量的核心器件,而进口品牌长期占据市场主导地位。然而,国产传感器技术近年来飞速发展,无锡泓川科技推出的 LTP系列激光位移传感器,凭借不输国际品牌基恩士LK-G系列的性能表现,以及仅为其一半的成本优势,为国产替代提供了极具竞争力的选择。本文将从核心技术、性能参数、应用场景及综合成本四大维度,对两者进行深度对比分析。 一、核心技术对比:自主创新突破瓶颈技术维度泓川LTP系列基恩士LK-G系列光学设计投受光分离型设计,支持同轴测量与镜面材料检测Li-CCD接收技术,优化像素边缘误差抗干扰能力蓝宝石防护镜+特殊滤波,抗强光(20000Lux)ND滤镜选件,适应镜面/高反光环境光斑控制宽光斑/聚焦光斑可选,适配粗糙表面与微小目标小光斑(最小20μm)与宽光斑(圆柱镜头扩展)算法优化半透明材料漫反射算法,消除内部散射干扰RPD/MRC算法,处理多重反射与透明材料分层测量光源定制405nm蓝光定制,适用于有机材料与红热金属标准655nm红光,可选ND滤镜适配高反射场景    技术亮点: LTP系列通过投受光分离设计实现与执行器(如工业相机、点胶针头)的同轴集成,解决了传统传感器空间干涉问题;其蓝光定制技术针对基恩士红光方案的局限性,在透明/半透明材料(如薄膜、玻璃)及高温金属表面测量中表现更优。二、性能参数对标:...
发布时间: 2025 - 03 - 04
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一、引言1.1 研究背景与目的在当今科技迅猛发展的时代,传感器作为获取信息的关键设备,在工业自动化、智能制造、航空航天、汽车制造等众多领域中发挥着不可或缺的重要作用。激光位移传感器凭借其高精度、非接触式测量、快速响应等显著优势,成为了现代精密测量领域的核心设备之一。近年来,随着国内制造业的转型升级以及对高精度测量需求的不断攀升,我国传感器市场呈现出蓬勃发展的态势。然而,长期以来,高端激光位移传感器市场大多被国外品牌所占据,这不仅限制了国内相关产业的自主发展,还在一定程度上影响了国家的产业安全。在此背景下,国产激光位移传感器的研发与推广显得尤为重要。本研究聚焦于国产激光位移传感器 HCM 系列,旨在深入剖析该系列产品的技术特点、性能优势、应用场景以及市场竞争力。通过对 HCM 系列产品的全面研究,期望能够为相关行业的企业提供有价值的参考依据,助力其在设备选型、技术升级等方面做出更为明智的决策。同时,本研究也希望能够为推动国产激光位移传感器行业的发展贡献一份力量,促进国内传感器产业的技术进步与创新,提升我国在高端传感器领域的自主研发能力和市场竞争力。1.2 研究方法与数据来源本研究综合运用了多种研究方法,以确保研究的全面性、准确性和可靠性。在研究过程中,首先进行了广泛的文献研究,收集并深入分析了国内外关于激光位移传感器的学术论文、行业报告、专利文献等资料,从而对激光位移传感器的发展历程...
发布时间: 2025 - 01 - 22
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Hot News / 热点新闻
2025 - 09 - 05
点击次数: 12
高精度测量传感器全系列:赋能精密制造,适配多元检测需求聚焦半导体、光学膜、机械加工等领域的精密检测核心痛点,我们推出全系列高性能测量传感器,覆盖 “测厚、对焦、位移” 三大核心应用场景,以 “高精准、高速度、高适配” 为设计核心,为您的工艺控制与质量检测提供可靠技术支撑。以下为各产品系列的详细介绍:1.LTS-IR 红外干涉测厚传感器:半导体材料测厚专属核心用途:专为硅、碳化硅、砷化镓等半导体材料...
2025 - 09 - 02
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泓川科技激光位移传感器产品技术报告尊敬的客户: 感谢您对泓川科技激光位移传感器产品的关注与信任。为帮助您全面了解我司产品,现将激光位移传感器相关技术信息从参数指标、设计原理、结构设计等八大核心维度进行详细说明,为您的选型、使用及维护提供专业参考。一、参数指标我司激光位移传感器涵盖 LTP400 系列与 LTP450 系列,各型号核心参数经纳米级高精度激光干涉仪标定验证,确保数据精准可靠,具体参数如...
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  • 17
    2023 - 09 - 16
    大家好,今天给大家详细说明下目前我们市面上用的激光位移传感器内部构造及详细原理、应用、市场种类、及未来发展,我在网上搜索了很多资料,发现各大平台或者厂商提供的信息大多千篇一律或者式只言片语,要么是之说出大概原理,要买只讲出产品应用,对于真正想了解激光位移传感器三角回差原理的朋友们来说总是没有用办法说透,我今天花点时间整理了各大平台的大牛们的解释,再结合自己对产品这么多年来的认识,整理出以下这篇文章,希望能给想要了解这种原理的小伙伴一点帮助!好了废话不多说我们直接上干货首先我们要说明市面上的激光测量位移或者距离的原理有很多,比如最常用的激光三角原理,TOF时间飞行原理,光谱共焦原理和相位干涉原理,我们今天给大家详细介绍的是激光三角测量法和激光回波分析法,激光三角测量法一般适用于高精度、短距离的测量,而激光回波分析法则用于远距离测量,下面分别介绍激光三角测量原理和激光回波分析原理。让我们给大家分享一个激光位移传感器原理图,一般激光位移传感器采用的基本原理是光学三角法:半导体激光器:半导体激光器①被镜片②聚焦到被测物体⑥。反射光被镜片③收集,投射到CMOS阵列④上;信号处理器⑤通过三角函数计算阵列④上的光点位置得到距物体的距离。一 、激光位移传感器原理之激光三角测量法原理1.激光发射器通过镜头将可见红色激光射向被测物体表面,经物体反射的激光通过接收器镜头,被内部的CCD线性相机接收,根据...
  • 18
    2024 - 01 - 21
    白光干涉测厚仪是一种非接触式测量设备,广泛应用于测量晶圆上液体薄膜的厚度。其原理基于分光干涉原理,通过利用反射光的光程差来测量被测物的厚度。白光干涉测厚仪工作原理是将宽谱光(白光)投射到待测薄膜表面上,并分析返回光的光谱。被测物的上下表面各形成一个反射,两个反射面之间的光程差会导致不同波长(颜色)的光互相增强或者抵消。通过详细分析返回光的光谱,可以得到被测物的厚度信息。白光干涉测厚仪在晶圆水膜厚度测量中具有以下优势:1. 测量范围广:能够测量几微米到1mm左右范围的厚度。2. 小光斑和高速测量:采用SLD(Superluminescent Diode)作为光源,具有小光斑和高速测量的特点,能够实现快速准确的测量。下面是使用白光干涉测厚仪测量晶圆上水膜厚度的详细步骤:1. 准备工作:确保待测晶圆样品表面清洁平整,无杂质和气泡。2. 参数设置:调整白光干测厚涉仪到合适的工作模式,并确定合适的测量参数和光学系统设置。根据具体要求选择光谱范围、采集速度等参数。3. 样品放置:将待测晶圆放置在白光干涉测厚仪的测量台上,并固定好位置,使其与光学系统保持稳定的接触。确保样品与测量台平行,并避免外界干扰因素。4. 启动测量:启动白光干涉测厚仪,开始测量水膜厚度。通过记录和分析返回光的光谱,可以得到晶圆上水膜的厚度信息。可以通过软件实时显示和记录数据。5. 连续监测:对于需要连续监测晶圆上水膜厚度变...
  • 19
    2025 - 03 - 22
    一、核心性能参数对比:精度与场景适配性参数泓川科技LTC2600(标准版)泓川LTC2600H(定制版)基恩士CL-P015(标准版)参考距离15 mm15 mm15 mm测量范围±1.3 mm±1.3 mm±1.3 mm光斑直径9/18/144 μm(多模式)支持定制(最小φ5 μm)ø25 μm(单点式)重复精度50 nm50 nm100 nm线性误差±0.49 μm(标准模式)分辨率0.03 μm0.03 μm0.25 μm(理论值)防护等级IP40IP67(定制)IP67耐温范围0°C ~ +50°C-20°C ~ +200°C(定制)0°C ~ +50°C真空支持不支持支持(10^-3 Pa,定制)支持(10^-6 Pa,标准版)重量228 g250 g(高温版)180 g性能深度解析精度碾压:LTC2600的重复精度(50 nm)显著优于CL-P015(100 nm),线性误差(光斑灵活性:LTC2600支持多光斑模式(最小φ5 μm定制),可兼顾微小目标检测与粗糙面稳定性;CL-P015仅提供单点式光斑(ø25 μm),适用场景受限。环境适应性:CL-P015标准版支持超高真空(10^-6 Pa),但C2600通过...
  • 20
    2025 - 01 - 16
    一、引言1.1 研究背景与目的在汽车行业迈向智能化与自动化的进程中,先进驾驶辅助系统(ADAS)作为关键技术,正发挥着愈发重要的作用。ADAS 凭借多种传感器与智能算法,能够实时监测车辆周边环境,为驾驶员提供预警与辅助控制,极大地提升了驾驶的安全性与舒适性。本报告旨在深入剖析《ADAS 相关工具 核心功能 & 技术》中所涉及的 ADAS 相关工具应用案例,通过详细描述各案例的具体应用场景、工作原理及达成的效果,深度挖掘这些工具在汽车制造及 ADAS 系统开发过程中的重要价值,为行业内相关人员提供具有实际参考意义的信息,助力推动 ADAS 技术的进一步发展与广泛应用。 1.2 研究方法与数据来源本报告通过对《ADAS 相关工具 核心功能 & 技术》进行全面细致的整理与深入分析,从中系统地提取出各类 ADAS 相关工具的应用案例。在分析过程中,对每个案例的技术原理、应用场景以及所实现的功能进行了详细阐述,并结合实际情况进行了深入探讨。本文所引用的 ADAS 相关工具的应用案例及技术原理均来自《ADAS 相关工具 核心功能 & 技术》文档,该文档为此次研究提供了丰富且详实的一手资料,确保了研究的准确性与可靠性。 二、车载相机应用案例剖析2.1 底部填充胶涂抹高度测量2.1.1 案例描述在汽车电子制造中,车载相机的底部填充胶涂抹高度对于确保相机的...
  • 21
    2022 - 12 - 01
    在烟草分级及仓储环节中有大量的自动化设备,比如高速往复运动的穿梭车堆垛机等,如何建立完善的安全预防措施,保障作业人员的人身安全是企业在思考的方向,我们在烟草工业内部系统里面已经积累了众多的成功案例,我们会通过机械安全控制以及电器这三个维度来帮助企业进行评估,具体的改造场景有,立库输送管道出入口防护百度极速可在经过现场评估后我们会给客户出具评估报告和推荐的安全整改。                机械设备,例如马舵机,泄漏机缠绕机等在快消品行业是广泛存在的,特别是码作机器,经常需要操作人员频繁介入该区域应用的工业机器人运行速度快存在着较高的安全隐患,在转运站码垛技术入口,经常采用一套光幕和光电传感器来实现屏蔽功能,从而实现人物分离,在这个应用中,以物体在传中带上面时,车场光电传感器,从而激活,屏蔽功能,当你为触发屏蔽功能很简单,有些操作人员会拿纸箱或者其他东西遮挡这个光电传感器,从而很容易就操纵了这个屏蔽功能,存在着很大的安全隐患,针对这个问题,我们开发出创新高效的是入口防护替代方案,智能门控系统,无锡屏蔽传感器就和实现pp功能,这项专利技术是基于。             专利技术是激光幕,使出入口防务变得更加高效...
  • 22
    2023 - 09 - 11
    非接触测量涂布厚度的行业报告摘要:本报告将介绍非接触测量涂布厚度的行业应用场景及解决方案。涂布厚度的准确测量在多个行业中至关重要,如带钢、薄膜、造纸、无纺布、金属箔材、玻璃和电池隔膜等行业。传统的测量方法存在一定的局限性,而非接触测量技术的应用可以提供更准确、高效的测量解决方案。本报告将重点介绍X射线透射法、红外吸收法和光学成像测量方法这三种主要的非接触测量解决方案,并分析其适用场景、原理和优势。引言涂布厚度是涂覆工艺中的一个重要参数,对于保证产品质量和性能具有重要意义。传统的测量方法,如接触式测量和传感器测量,存在一定局限性,如易受污染、操作复杂和不适用于特定行业。而非接触测量方法以其高精度、实时性和便捷性成为行业中的理想选择。行业应用场景涂布厚度的非接触测量方法适用于多个行业,包括但不限于以下领域:带钢:用于热镀锌、涂覆和镀铝等行业,对涂层和薄膜的厚度进行测量。薄膜:用于光学、电子、半导体等行业,对各种功能薄膜的厚度进行测量。造纸:用于测量纸张的涂布、涂胶和覆膜等工艺中的厚度。无纺布:用于纺织和过滤行业,对无纺布的厚度进行测量。金属箔材:用于食品包装、电子器件等行业,对箔材的厚度进行测量。玻璃:用于建筑和汽车行业,对玻璃的涂层厚度进行测量。电池隔膜:用于电池制造行业,对隔膜的厚度进行测量。解决方案一:X射线透射法X射线透射法是一种常用的非接触涂布厚度测量方法,其测量原理基于射线...
  • 23
    2025 - 03 - 04
    一、核心参数对比表参数项LK-G08(基恩士)LTPD08(泓川科技国产)参考距离8 mm8 mm检测范围±0.8 mm±0.8 mm线性度±0.05% F.S.±0.03% F.S.重复精度0.02 μm0.03 μm采样频率20 μs1 ms(6档可调)6.25 μs1 ms(多档可调)激光类别1类(JIS C6802)2类(安全等级更高)光源功率0.3 mW0.5 mW(可定制更高功率)防护等级未标注IP67工作温度+10+40°C0+50°C(可定制-4070°C)通讯接口未标注RS485、TCP/IP、开发包支持供电电压-DC 936V(±10%波动兼容)重量245 g213 g二、性能差异深度解析1. 测量性能精度与速度: LK-G08在重复精度(0.02μm)上略优,适合超精密场景;而LTPD08的线性度(±0.03% F.S.)更优,且在采样频率上支持最高6.25μs(缩小量程时可达160kHz),动态响应能力更强。激光适应性: LTPD08提供405nm蓝光版本可选,可应对高反光或透明材质测量,基恩士仅支持655nm红光。2. 环境适应性防护等级: LTPD08的IP67防护显著优于未标注防护的LK-G08,适...
  • 24
    2023 - 09 - 25
    由于半导体生产工艺的复杂性和精密性,对晶圆切割的技术要求极高,传统的机械切割方式已经无法满足现代电子行业的需求。在这种情况下,光谱共焦位移传感器配合激光隐切技术(激光隐形切割)在晶圆切割中发挥了重要作用。以下将详细介绍这种新型高效切割技术的应用案例及其优势。原理:利用小功率的激光被光谱共焦位移传感器设定的预定路径所导,聚焦在直径只有100多纳米的光斑上,形成巨大的局部能量,然后根据这个能量将晶圆切割开。光谱共焦位移传感器在切割过程中实时检测切口深度和位置,确保切口的深广和位置的精确性。激光隐切与光谱共焦位移传感器结合的应用案例:以某种先进的半导体制程为例,晶圆经过深刻蚀、清洗、扩散等步骤后,需要进行精确切割。在这个过程中,首先,工程师根据需要的切割图案在软件上设定好切割路径,然后切割机通过光谱共焦位移传感器引导激光按照预定的路径且此过程工程师可以实时观察和测量切口深度和位置。优点:这种技术最大的优势就是它能够实现超微细切割,避免了大功率激光对芯片可能会带来的影响。另外,因为切割的深度和位置可以实时调控,这 法也非常具有灵活性。同时,由于使用光谱共焦位移传感器精确控制切割的深度和位置,所以切割出来的晶圆表面平整,质量更好。总的来看,光谱共焦位移传感器配合激光隐切在晶圆切割中的应用,不仅提升了生产效率,减少了废品率,而且大幅度提升了产品质量,对于当前和未来的半导体行业都将是一个革新的技...
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泓川科技国产系列光谱共焦/激光位移传感器/白光干涉测厚产品性能一览 2025 - 09 - 05 高精度测量传感器全系列:赋能精密制造,适配多元检测需求聚焦半导体、光学膜、机械加工等领域的精密检测核心痛点,我们推出全系列高性能测量传感器,覆盖 “测厚、对焦、位移” 三大核心应用场景,以 “高精准、高速度、高适配” 为设计核心,为您的工艺控制与质量检测提供可靠技术支撑。以下为各产品系列的详细介绍:1.LTS-IR 红外干涉测厚传感器:半导体材料测厚专属核心用途:专为硅、碳化硅、砷化镓等半导体材料设计,精准实现晶圆等器件的厚度测量。性能优点:精度卓越:±0.1μm 线性精度 + 2nm 重复精度,确保测量数据稳定可靠;量程适配:覆盖 10μm2mm 测厚范围,满足多数半导体材料检测需求;高效高速:40kHz 采样速度,快速捕捉厚度数据,适配在线检测节奏;灵活适配:宽范围工作距离设计,可灵活匹配不同规格的检测设备与场景。2. 分体式对焦传感器:半导体 / 面板缺陷检测的 “高速对焦助手”核心用途:针对半导体、面板领域的高精度缺陷检测场景,提供高速实时对焦支持,尤其适配显微对焦类检测设备。性能优点:对焦速度快:50kHz 高速对焦,同步匹配缺陷检测的实时性需求;对焦精度高:0.5μm 对焦精度,保障缺陷成像清晰、检测无偏差;设计灵活:分体式结构,可根据检测设备的安装空间与布局灵活调整,降低适配难度。3. LT-R 反射膜厚仪:极薄膜厚检测的 “精密管家”核心用途:专注于极薄膜...
多方面研究泓川科技LTP系列大量程全国产激光位移传感器 2025 - 09 - 02 泓川科技激光位移传感器产品技术报告尊敬的客户: 感谢您对泓川科技激光位移传感器产品的关注与信任。为帮助您全面了解我司产品,现将激光位移传感器相关技术信息从参数指标、设计原理、结构设计等八大核心维度进行详细说明,为您的选型、使用及维护提供专业参考。一、参数指标我司激光位移传感器涵盖 LTP400 系列与 LTP450 系列,各型号核心参数经纳米级高精度激光干涉仪标定验证,确保数据精准可靠,具体参数如下表所示:表 1:LTP400EA参数表参数类别具体参数LTP400EA备注基础测量参数测量中心距离400mm以量程中心位置计算(*1)量程200mm-重复精度(静态)3μm测量标准白色陶瓷样件,50kHz 无平均,取 65536 组数据均方根偏差(*2)线性度±0.03%F.S.(F.S.=200mm)采用纳米级激光干涉仪标定(*3)光源与光斑光源类型-激光功率可定制,部分型号提供 405nm 蓝光版本(*4)光束直径聚焦点光斑 Φ300μm中心位置直径,两端相对变大(*5)电气参数电源电压DC9-36V-功耗约 2.5W-短路保护反向连接保护、过电流保护-输出与通信模拟量输出(选配)电压:0-5V/010V/-1010V;电流:420mA探头可独立提供电压、电流与 RS485 输出(*6)通讯接口RS485 串口、TCP/IP 网口可选配模拟电压 / 电流输出模块(*7)响应...
泓川科技发布 LT-CP 系列 ETHERCAT 总线高光谱共焦控制器,32KHz 高速采样引领工业... 2025 - 08 - 30 泓川科技发布 LT-CP 系列 ETHERCAT 总线高光谱共焦控制器,32KHz 高速采样引领工业高精度测量革新近日,工业高精度测量领域迎来技术突破 —— 泓川科技正式推出LT-CP 系列 ETHERCAT 总线高光谱共焦传感器控制器(含单通道 LT-CPS、双通道 LT-CPD、四通道 LT-CPF 三款型号,含普通光源与高亮激光光源版本)。该系列产品以 “32KHz 高速采样” 与 “ETHERCAT 工业总线” 为核心亮点,填补了行业内 “高频响应 + 实时协同” 兼具的技术空白,为新能源、半导体、汽车制造等高端领域的动态高精度测量需求提供了全新解决方案。一、核心突破:32KHz 高速采样,破解 “多通道降速” 行业痛点光谱共焦技术的核心竞争力在于 “高精度” 与 “响应速度” 的平衡,而 LT-CP 系列在速度维度实现了关键突破 ——单通道模式下最高采样频率达 32KHz,意味着每秒可完成 32000 次精准距离 / 厚度测量,相当于对动态移动的被测物体(如高速传输的电池极片、晶圆)实现 “无遗漏” 的高频捕捉,测量分辨率与动态响应能力远超行业常规 10-20KHz 级别控制器。更具稀缺性的是,该系列打破了 “多通道即降速” 的传统局限:即使在双通道模式(最高 16KHz)、四通道模式(最高 8KHz)下,仍保持高频响应的稳定性。以四通道 LT-CPF 为例,其每通道 8...
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