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为什么要选择宽光斑激光位移传感器来测量锂电池电极的厚度？
一、引言在锂电池生产中，电极厚度是影响电池性能的关键参数。基片涂覆活性物质后形成的粗糙表面，使用传统点光斑传感器测量时易受表面微观形貌影响，导致数据波动大、测量精度不足。本文针对这一问题，提出采用两台 LTP030U 宽光斑激光位移传感器对射测量方案，结合其独特的光学设计与高精度...
泓川科技LTM3/LTM5 激光位移传感器重塑网口TCP/IP通讯测量生态-从高速通讯到智能交互的全维度突破
一、破局万元壁垒：3000-4000 元网口传感器开启普惠智能时代在工业传感器领域，具备以太网（网口）输出功能的激光位移传感器长期被海外品牌以万元价格垄断，成为自动化升级的 “卡脖子” 环节。无锡泓川科技携LTM3（10kHz 采样）与 LTM5（31.25kHz 超高速采样）系...
泓川科技激光位移传感器破解 PCB 板叠片检测难题：高效生产新方案
一、PCB 生产痛点：超薄板叠片检测难在电子制造中，PCB 板厚度仅 0.1-1.6mm，高速传输时极易出现多层重叠，传统检测手段却力不从心：接触式测量：机械探针易压弯薄板，且每秒仅测百次，跟不上产线速度；视觉检测：依赖稳定光源，机台振动（±50μm 级）让图像模糊，漏...
基于激光位移测量的机器人自动定位打磨系统的成功应用案例
一、某型航空发动机机匣精密打磨项目（国内自主研发案例）应用背景加工对象：钛合金 TC4 机匣（直径 350mm，叶片型面曲率半径 20-100mm，加工余量 0.3-0.5mm）核心难点：薄壁结构（最小壁厚 1.5mm）易变形，型面复杂导致定位误差敏感（设计公差 ±0....
泓川科技 HC26-30 与奥泰斯 OPTEX CD33-30 系列激光位移传感器对比分析：技术性能与可替代性探讨
在工业自动化领域，激光位移传感器凭借高精度、非接触测量的优势，广泛应用于精密定位、尺寸检测等场景。本文针对泓川科技 HC26 系列与奥泰斯 OPTEX CD33-30 系列（含模拟量通讯版本）进行多维度技术对比，从安装尺寸、通讯格式、模拟量信号、精度、成本等关键指标分析两者的可替...
国产替代深度解析：泓川科技 HC8-050 与松下 HG-C1050 激光位移传感器的技术对比与应用价值
在工业自动化领域，精密测量是保障产品质量与生产效率的核心环节。泓川科技 HC8-050 与松下 HG-C1050 作为两款主流的中短距离激光位移传感器，在电子制造、精密加工、自动化检测等领域应用广泛。本文将从技术参数、核心性能、应用场景等维度展开深度对比，揭示 HC8-050 在...
泓川科技 LTM2-800W 替代美国邦纳 BANNER LE550 系列的可行性对比分析
在工业自动化领域，激光位移传感器的性能直接影响测量精度和系统稳定性。本文针对泓川科技 LTM2-800W 与美国邦纳 BANNER LE550 系列传感器，从技术参数、性能指标、应用场景等维度进行深度对比，探讨 LTM2-800W 替代 LE550 系列的可行性，尤其突出其更高的...
深度解析国产平替：泓川科技 HC8-400 与松下 HG-C1400 激光位移传感器的技术对比与应用价值
在工业自动化领域，激光位移传感器作为精密测量的核心部件，其性能直接影响生产精度与效率。本文聚焦泓川科技 HC8-400 与松下 HG-C1400 两款主流产品，从技术参数、核心优势、应用场景等维度展开深度对比，揭示 HC8-400 在特定场景下的不可替代性及成本优势。一、技术参数...
无锡泓川科技PD50激光位移传感器：中空同轴+50mm长距测量，0.05μm精度开启工业检测新维度
在大型工件检测、锂电池极片测厚、航空航天等高精度长距测量场景中，传感器需兼具大范围扫描能力与微米级精度，同时解决多设备空间协同难题。无锡泓川科技LTPD50激光位移传感器创新采用中空分体式结构设计，以50mm超长参考距离、0.05μm重复精度及进口半价成本，突破进口设备在长距高精...
泓川科技国产激光位移传感器HC16-15与进口Micro-Epsilon米铱ILD1420-10技术对比及国产替代可行性研究
以下为HC16-15国产激光位移传感器与进口ILD1420-10的对比分析报告，重点围绕技术参数、性能指标及国产替代可行性展开：一、核心参数对比指标HC16-15（泓川科技）ILD1420-10（Micro-Epsilon）测量范围±5mm（总10mm）10mm（SMR...
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专业从事激光位移传感器，激光焊缝跟踪系统研发及销售的科技公司
中国 · 无锡 · 总部地址：无锡新吴区天山路6号
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    激光位移传感器如何对薄膜进行测厚？
    激光位移传感器如何对薄膜进行测厚？
    2023 - 03 - 09
    激光位移传感器被广泛应用于各种领域中。其中一个很有用的应用是测量薄膜厚度。这种传感器可以在离表面很近的距离下进行高精度测量，因此非常适合这种应用。本文将介绍激光位移传感器如何用于测量薄膜厚度，包括测量方法、测量原理和市场应用。一、测量方法测量薄膜厚度的基本思路是利用激光位移传感器测量薄膜前后表面的距离差，然后通过几何公式计算出薄膜厚度。在实际操作中，测量方法大致可分为以下几种：1. 手持式测量手持式测量通常用于快速的现场检测。用户只需要将激光位移传感器靠近待测表面，然后通过读取显示屏上的数值判断薄膜厚度是否符合要求。这种方法不需要复杂的设备和步骤，非常易于使用。但是由于人手的震动和误差等因素，手持式测量的精度相对较低，只适用于需求不是特别高的场合。2. 自动化在线测量自动化在线测量一般用于工业生产线上的质量控制。这种方法需要将激光位移传感器与自动化设备相连接，将测量数据传递给计算机进行分析。在这种情况下，测量过程可以完全自动化，精度也可以得到保证。但是相对于手持式测量来说，这种方法需要的设备和技术要求更高，成本也更高。3. 显微镜下测量显微镜下测量常用于对细小薄膜厚度的测量。在这种情况下，用户需要将激光位移传感器与显微镜相结合进行测量。由于显微镜的存在，可以大大增强测量精度。但是相对于其他两种方法，这种方法需要的设备更多，并且技巧要求也更高。二、测量原理激光位移传感器利用的是激光三...
  • 2
    光学传感器：薄膜涂布生产工艺的革新驱动力（下）
    光学传感器：薄膜涂布生产工艺的革新驱动力（下）
    2025 - 01 - 14
    四、光学传感器应用对薄膜涂布生产的影响4.1 提升生产效率4.1.1 实时监测与反馈在薄膜涂布生产的复杂乐章中，光学传感器实时监测与反馈机制宛如精准的指挥棒，引领着生产的节奏。凭借其卓越的高速数据采集能力，光学传感器能够如同闪电般迅速捕捉涂布过程中的关键参数变化。在高速涂布生产线以每分钟数百米的速度运行时，传感器能够在瞬间采集到薄膜厚度、涂布速度、位置偏差等数据，为生产过程的实时监控提供了坚实的数据基础。这些采集到的数据如同及时的情报，被迅速传输至控制系统。控制系统则如同智慧的大脑，对这些数据进行深入分析。一旦发现参数偏离预设的理想范围，控制系统会立即发出指令，如同指挥官下达作战命令，对涂布设备的相关参数进行精准调整。当检测到薄膜厚度略微超出标准时，控制系统会迅速调整涂布头的压力，使涂布量精确减少，确保薄膜厚度回归正常范围。这种实时监测与反馈机制的存在，使得生产过程能够始终保持在最佳状态。它避免了因参数失控而导致的生产中断和产品质量问题，如同为生产线安装了一个智能的 “稳定器”。与传统的生产方式相比，生产调整的时间大幅缩短，从过去的数小时甚至数天，缩短至现在的几分钟甚至几秒钟，极大地提高了生产效率。4.1.2 减少停机时间在薄膜涂布生产的漫长旅程中，设备故障和产品质量问题如同隐藏在道路上的绊脚石，可能导致停机时间的增加，严重影响生产效率。而光学传感器的实时监测功能，就像一位警惕的卫...
  • 3
    基于高精度光谱共焦传感器的基膜厚度测量方案
    基于高精度光谱共焦传感器的基膜厚度测量方案
    2023 - 08 - 21
    摘要：基膜厚度是许多工业领域中重要的参数，特别是在薄膜涂覆和半导体制造等领域。本报告提出了一种基于高精度光谱感测的基膜厚度测量方案，该方案采用非接触测量技术，具有高重复性精度要求和不损伤产品表面的优势。通过详细的方案设计、设备选择和实验验证，展示了如何实现基膜厚度的准确测量，并最终提高生产效率。引言基膜厚度的精确测量对于许多行业来说至关重要。传统测量方法中的接触式测量存在损伤产品表面和对射测量不准确的问题。相比之下，高精度光谱感测技术具有非接触、高重复性和高精度的优势，因此成为了基膜厚度测量的理想方案。方案设计基于高精度光谱感测的基膜厚度测量方案设计如下：2.1 设备选择选择一台高精度光谱感测仪器，具备以下特点：微米级或亚微米级分辨率：满足对基膜厚度的高精度要求。宽波长范围：覆盖整个感兴趣的波长范围。快速采集速度：能够快速获取数据，提高生产效率。稳定性和重复性好：确保测量结果的准确性和可靠性。2.2 光谱感测技术采用反射式光谱感测技术，原理如下：在感测仪器中，发射一个宽光谱的光源，照射到待测样品表面。根据不同厚度的基膜对光的反射率不同，形成一个光谱反射率图像。通过对反射率图像的分析和处理，可以确定基膜的厚度。2.3 实验设计设计实验验证基膜厚度测量方案的准确性和重复性。选择一系列已知厚度的基膜作为标准样品。使用高精度光谱感测仪器对标准样品进行测量，并记录测量结果。重复多次测量，并计...
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    圆筒内壁检测技术的新突破：激光三角测距法与机器视觉的完美结合
    圆筒内壁检测技术的新突破：激光三角测距法与机器视觉的完美结合
    2023 - 12 - 23
    摘要：圆筒内壁的检测在工业生产中具有重要意义，传统方法存在诸多问题。本文介绍了一种新型的检测系统，该系统结合了改进的激光三角测距法和机器视觉技术，旨在解决传统方法的不足。新方法可以在高温环境下工作，对小径圆筒进行测量，且测量精度高、速度快。通过实验验证，该系统能够实现圆筒内壁的高质量、高速度的在线检测，为现代工业生产提供了有力支持。关键词：圆筒内壁检测；机器视觉；激光三角测距法；在线检测引言圆筒内壁检测是工业生产中的重要环节，其质量直接关系到产品的性能和使用寿命。传统的检测方法存在诸多问题，如检测精度不高、速度慢、无法在线检测等。为了解决这些问题，本文提出了一种新型的检测系统，该系统结合了改进的激光三角测距法和机器视觉技术，旨在实现圆筒内壁的高质量、高速度的在线检测。工作原理本系统采用激光三角测距法作为主要测量手段。激光三角测距法是一种非接触式测量方法，通过激光投射到被测物体表面并反射回来，再通过传感器接收，经过处理后可以得到被测物体的距离和尺寸信息。本系统对传统的激光三角测距法进行了改进，使其能够在高温环境下工作，并对小径圆筒进行测量。同时，本系统还采用了机器视觉技术进行辅助测量和判断。机器视觉技术是通过计算机模拟人类的视觉功能，实现对图像的采集、处理和分析。本系统利用机器视觉技术对圆筒内壁表面进行图像采集和处理，通过算法识别和判断内壁表面的缺陷和尺寸信息。通过将激光三角测距法和...
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    国产LTP150与进口LK-G150激光位移传感器性能对比：突破技术壁垒，彰显本土创新优势
    国产LTP150与进口LK-G150激光位移传感器性能对比：突破技术壁垒，彰显本土创新优势
    2025 - 03 - 05
    在工业自动化领域，激光位移传感器是精密测量的核心器件。本文以国产泓川科技的LTP150与基恩士的LK-G150为对比对象，从核心技术参数、功能设计及性价比等维度，解析国产传感器的创新突破与本土化优势。一、核心参数对比：性能旗鼓相当，国产线性度更优精度与稳定性LTP150的线性度为±0.02%F.S.，优于LK-G150的±0.05%F.S.，表明其全量程范围内的测量一致性更佳。重复精度方面，LK-G150（0.5μm）略高于LTP150（1.2μm），但需注意LK-G150数据基于4096次平均化处理，而LTP150在无平均条件下的65536次采样仍保持1.2μm偏差，实际动态场景下稳定性更可靠。采样频率与响应速度LTP150支持50kHz全量程采样，并可扩展至160kHz（量程缩小至20%），远超LK-G150的1kHz上限。高频采样能力使其在高速生产线（如电池极片、半导体晶圆检测）中可捕捉更多细节，避免数据遗漏。环境适应性两者均具备IP67防护与抗振设计，但LTP150可选**-40°C至70°C宽温版本**，覆盖极寒或高温车间环境，而LK-G150仅支持050°C，适用场景受限。以下是 LTP150（泓川科技） 与 LK-G150（基恩士） 激光位移传感器的核心参数对比表格，重点突出国产...
  • 6
    一场关于基恩士光谱共焦传感器：原理、特性与应用的深度全面剖析好文(上）
    一场关于基恩士光谱共焦传感器：原理、特性与应用的深度全面剖析好文(上）
    2025 - 01 - 14
    一、引言1.1 研究背景与意义在工业制造、科研等众多领域，精密测量技术如同基石，支撑着产品质量的提升与科学研究的深入。光谱共焦传感器作为精密测量领域的关键技术，正以其独特的优势，在诸多行业中发挥着无可替代的作用。它能精确测量物体的位移、厚度、表面轮廓等参数，为生产过程的精确控制与产品质量的严格把控提供了关键数据支持。基恩士作为传感器领域的佼佼者，其推出的光谱共焦传感器在市场上备受瞩目。基恩士光谱共焦传感器凭借卓越的性能，如高精度、高稳定性、快速响应等，在精密测量领域中脱颖而出。在半导体制造过程中，芯片的生产对精度要求极高，基恩士光谱共焦传感器可精准测量芯片的厚度、线宽等关键参数，保障芯片的性能与质量。在光学元件制造领域，其能够精确测量透镜的曲率、厚度等参数，助力生产出高质量的光学元件。研究基恩士光谱共焦传感器，对于推动精密测量技术的发展具有重要意义。通过深入剖析其原理、结构、性能以及应用案例，能够为相关领域的技术创新提供参考，促进测量技术的不断进步。在实际应用中，有助于用户更合理地选择和使用该传感器，提高生产效率，降低生产成本。在汽车制造中，利用基恩士光谱共焦传感器对零部件进行精密测量，可优化生产流程，减少废品率。 1.2 研究现状在国外，光谱共焦传感器的研究起步较早，技术也相对成熟。法国的STIL公司作为光谱共焦传感器的发明者，一直处于该领域的技术前沿。其研发的光谱共焦...
  • 7
    亚微米级激光位移传感器的技术实现路径及LTP系列创新设计
    亚微米级激光位移传感器的技术实现路径及LTP系列创新设计
    2025 - 02 - 19
    一、测量原理与技术框架高精度激光位移传感器实现1μm以下精度的核心在于三角测量法的深度优化。如图1所示，当激光束投射到被测表面时，散射光斑经接收透镜在CMOS/CCD阵列上形成位移图像。根据几何关系：\Delta x = \frac{L \cdot \sinθ}{M \cdot \cos(α±θ)}Δx=M⋅cos(α±θ)L⋅sinθ其中L为基距，θ为接收角，M为放大倍数。要实现亚微米分辨率需突破传统三角法的三个技术瓶颈：光斑质量退化、环境噪声干扰、信号处理延迟。二、关键算法突破1. 光斑中心定位算法采用改进型高斯混合模型（GMM）结合小波变换降噪，可有效抑制散斑噪声。研究显示[1]，基于Marr小波的边缘检测算法可使定位精度提升至0.12像素（对应0.05μm）。2. 动态补偿算法LTP系列采用专利技术（CN202310456789.1）中的自适应卡尔曼滤波：PYTHONclass AdaptiveKalman:    def update(self, z):        # 实时调整过程噪声协方差Q        se...
  • 8
    国产工业光学传感器大致现状
    国产工业光学传感器大致现状
    2023 - 03 - 20
    介绍工业光电传感器是现代制造业中最常用的检测设备之一，广泛应用于自动化生产线、机械加工、装配、物流搬运等行业。随着国民经济的不断发展，中国的工业光电传感器制造业也不断发展壮大，成为制造业的一支重要力量。本文旨在对中国产的工业光电传感器现状进行描述。发展历史20世纪80年代初期，我国的工业自动化程度比较低，大部分生产线仍采用人力操作，制造业存在高人力成本、低效率、品质难以保证等问题。为了提高制造业的效率和品质，中国开始引入外国的工业自动化设备，其中就包括工业光电传感器。80年代中后期，国内开始试水制造工业光电传感器，并逐步发展壮大。90年代初期，随着国民经济的增长和工业自动化的加速推进，中国的工业光电传感器制造业进入快速发展期。如今，中国的工业光电传感器制造业已经处于全球领先地位，成为世界闻名的光电传感器生产基地之一。产业链分析商业模式中国的工业光电传感器制造业商业模式主要是以生产销售为主，较少采用研发生产销售一体化模式。生产企业主要供应给自动化设备制造商，然后这些自动化设备制造商销售给最终用户，最终用户则使用这些设备来自动化生产线。除此之外，还有一些企业将工业光电传感器产品应用到自己的设备制造中，以提高自己产品的品质和效率，然后再将自己的产品销售给最终用户。在商业模式上，中国的工业光电传感器制造业与欧美等发达国家还存在一定的差距。技术研发中国的工业光电传感器制造业在技术研发方面逐渐...
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泓川科技国产系列光谱共焦/激光位移传感器/白光干涉测厚产品性能一览 2025 - 09 - 05 高精度测量传感器全系列：赋能精密制造，适配多元检测需求聚焦半导体、光学膜、机械加工等领域的精密检测核心痛点，我们推出全系列高性能测量传感器，覆盖 “测厚、对焦、位移” 三大核心应用场景，以 “高精准、高速度、高适配” 为设计核心，为您的工艺控制与质量检测提供可靠技术支撑。以下为各产品系列的详细介绍：1.LTS-IR 红外干涉测厚传感器：半导体材料测厚专属核心用途：专为硅、碳化硅、砷化镓等半导体材料设计，精准实现晶圆等器件的厚度测量。性能优点：精度卓越：±0.1μm 线性精度 + 2nm 重复精度，确保测量数据稳定可靠；量程适配：覆盖 10μm2mm 测厚范围，满足多数半导体材料检测需求；高效高速：40kHz 采样速度，快速捕捉厚度数据，适配在线检测节奏；灵活适配：宽范围工作距离设计，可灵活匹配不同规格的检测设备与场景。2. 分体式对焦传感器：半导体 / 面板缺陷检测的 “高速对焦助手”核心用途：针对半导体、面板领域的高精度缺陷检测场景，提供高速实时对焦支持，尤其适配显微对焦类检测设备。性能优点：对焦速度快：50kHz 高速对焦，同步匹配缺陷检测的实时性需求；对焦精度高：0.5μm 对焦精度，保障缺陷成像清晰、检测无偏差；设计灵活：分体式结构，可根据检测设备的安装空间与布局灵活调整，降低适配难度。3. LT-R 反射膜厚仪：极薄膜厚检测的 “精密管家”核心用途：专注于极薄膜...
多方面研究泓川科技LTP系列大量程全国产激光位移传感器 2025 - 09 - 02 泓川科技激光位移传感器产品技术报告尊敬的客户： 感谢您对泓川科技激光位移传感器产品的关注与信任。为帮助您全面了解我司产品，现将激光位移传感器相关技术信息从参数指标、设计原理、结构设计等八大核心维度进行详细说明，为您的选型、使用及维护提供专业参考。一、参数指标我司激光位移传感器涵盖 LTP400 系列与 LTP450 系列，各型号核心参数经纳米级高精度激光干涉仪标定验证，确保数据精准可靠，具体参数如下表所示：表 1：LTP400EA参数表参数类别具体参数LTP400EA备注基础测量参数测量中心距离400mm以量程中心位置计算（*1）量程200mm-重复精度（静态）3μm测量标准白色陶瓷样件，50kHz 无平均，取 65536 组数据均方根偏差（*2）线性度±0.03%F.S.（F.S.=200mm）采用纳米级激光干涉仪标定（*3）光源与光斑光源类型-激光功率可定制，部分型号提供 405nm 蓝光版本（*4）光束直径聚焦点光斑 Φ300μm中心位置直径，两端相对变大（*5）电气参数电源电压DC9-36V-功耗约 2.5W-短路保护反向连接保护、过电流保护-输出与通信模拟量输出（选配）电压：0-5V/010V/-1010V；电流：420mA探头可独立提供电压、电流与 RS485 输出（*6）通讯接口RS485 串口、TCP/IP 网口可选配模拟电压 / 电流输出模块（*7）响应...
泓川科技发布 LT-CP 系列 ETHERCAT 总线高光谱共焦控制器，32KHz 高速采样引领工业... 2025 - 08 - 30 泓川科技发布 LT-CP 系列 ETHERCAT 总线高光谱共焦控制器，32KHz 高速采样引领工业高精度测量革新近日，工业高精度测量领域迎来技术突破 —— 泓川科技正式推出LT-CP 系列 ETHERCAT 总线高光谱共焦传感器控制器（含单通道 LT-CPS、双通道 LT-CPD、四通道 LT-CPF 三款型号，含普通光源与高亮激光光源版本）。该系列产品以 “32KHz 高速采样” 与 “ETHERCAT 工业总线” 为核心亮点，填补了行业内 “高频响应 + 实时协同” 兼具的技术空白，为新能源、半导体、汽车制造等高端领域的动态高精度测量需求提供了全新解决方案。一、核心突破：32KHz 高速采样，破解 “多通道降速” 行业痛点光谱共焦技术的核心竞争力在于 “高精度” 与 “响应速度” 的平衡，而 LT-CP 系列在速度维度实现了关键突破 ——单通道模式下最高采样频率达 32KHz，意味着每秒可完成 32000 次精准距离 / 厚度测量，相当于对动态移动的被测物体（如高速传输的电池极片、晶圆）实现 “无遗漏” 的高频捕捉，测量分辨率与动态响应能力远超行业常规 10-20KHz 级别控制器。更具稀缺性的是，该系列打破了 “多通道即降速” 的传统局限：即使在双通道模式（最高 16KHz）、四通道模式（最高 8KHz）下，仍保持高频响应的稳定性。以四通道 LT-CPF 为例，其每通道 8...
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